申请/专利权人：上海华力微电子有限公司

申请日：2021-05-28

公开（公告）日：2024-04-30

公开（公告）号：CN113139702B

主分类号：G06Q10/04

分类号：G06Q10/04;G06Q50/04;G06F18/214;G06F16/215

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.30#授权;2021.08.06#实质审查的生效;2021.07.20#公开

摘要：本发明的在制品数量的预测方法包括：获取半导体工艺路线中的多个在制品数量数据以及对应的多个芯片产量数据；以多个在制品数量数据和多个芯片产量数据为数据集，清洗数据集，使得数据集符合半导体工艺路线的预设要求；获取半导体工艺路线中的多个输入特征组以及相对应的多个输出特征组；以多个输入特征组以及多个输出特征组为样本集，利用第一预设算法提取训练样本集，从而构建预测模型；根据多个输入特征组中的一部分数据的平均值，并基于预测模型计算在制品数量数据。本发明相较于现有技术，通过清洗数据集可以去除数据集中异常率较高的在制品数量数据以及对应的芯片产量数据，从而提升预测模型的准确性和稳定性。

主权项：1.一种在制品数量的预测方法，应用于半导体工艺路线，其特征在于，包括：获取半导体工艺路线中的多个在制品数量数据以及与所述在制品数量数据一一对应的多个芯片产量数据；以多个所述在制品数量数据和对应的多个所述芯片产量数据为数据集，利用最小二乘法提取训练所述数据集的映射关系，于坐标系中拟合得到筛选函数，其中，横轴表示所述在制品数量数据，纵轴表示所述芯片产量数据；分别计算所述数据集于所述坐标系中模拟形成的多个坐标点与所述筛选函数之间的纵轴偏差，并基于所述纵轴偏差清洗所述数据集；其中，若所述纵轴偏差的绝对值大于期望偏差，删除所述坐标点对应的所述在制品数量数据和所述芯片产量数据；若所述纵轴偏差的绝对值小于或等于所述期望偏差，保存所述坐标点对应的所述在制品数量数据和所述芯片产量数据；获取半导体工艺路线中的多个输入特征组以及与所述输入特征组一一对应的多个输出特征组；所述输入特征组包括清洗后的所述数据集的在制品数量数据、机台可利用时间率数据、各工艺站点的加工时间数据和机台可利用数量数据，所述输出特征组包括清洗后的所述数据集的芯片产量数据；以获取的多个所述输入特征组以及对应的多个所述输出特征组为样本集，利用多项式回归提取训练所述样本集，从而构建预测模型；根据多个所述输入特征组中的机台可利用时间率数据的平均值、各工艺站点的加工时间数据的平均值和机台可利用数量数据的平均值，并基于所述预测模型计算在制品数量数据。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海华力微电子有限公司 在制品数量的预测方法及预测系统

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