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【发明授权】SiOCN陶瓷的制备方法_哈尔滨工业大学_200910072021.3 

申请/专利权人:哈尔滨工业大学

申请日:2009-05-13

公开(公告)日:2011-11-23

公开(公告)号:CN101550012B

主分类号:C04B35/622(2006.01)I

分类号:C04B35/622(2006.01)I;C04B35/515(2006.01)I

优先权:

专利状态码:失效-未缴年费专利权终止

法律状态:2023.05.23#未缴年费专利权终止;2011.11.23#授权;2009.12.02#实质审查的生效;2009.10.07#公开

摘要:SiOCN陶瓷的制备方法,它属于陶瓷制备领域。本发明解决了现有SiOCN材料的制备方法存在的成分不易控、制备工艺复杂及成本高问题。本发明方法:一、含硅氢键的化合物与烯丙胺混合,再加入铂催化剂混合均匀得到混合物;二、制备SiOCN先驱体;三、经过裂解即制备得到SiOCN陶瓷。本发明的制备方法成本低,制备得到的SiOCN陶瓷高温性能好,可在1400℃以上的条件下使用,应用范围广。

主权项:SiOCN陶瓷的制备方法,其特征在于SiOCN陶瓷的制备方法按照以下步骤进行:一、含硅氢键的化合物与烯丙胺按照Si‑HC=C的摩尔比为0.5~16的比例混合,再加入铂催化剂混合均匀得到混合物,其中铂催化剂的用量是Pt元素质量为混合物质量的0.0005%~0.020%,含硅氢键的化合物为含氢硅氧烷或含氢聚硅氧烷;二、将步骤一中的混合物在100℃~200℃的条件下保温3~15小时得到SiOCN先驱体;三、SiOCN先驱体在气氛保护条件下在管式炉中以1~20℃min的加热速度升温到900~1400℃并保温0.5~2h,然后随炉冷却,即制备得到SiOCN陶瓷。

全文数据:

权利要求:

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