【发明公布】基底干燥方法、显影方法、光刻方法和基底干燥系统_三星电子株式会社_201910722297.5 

申请/专利权人:三星电子株式会社

申请日:2019-08-06

发明/设计人:金伶厚;李根泽;赵庸真;高次元;朴晟见;李晓山;车知勋;崔秀瑛

公开(公告)日:2020-05-22

代理机构:北京铭硕知识产权代理有限公司

公开(公告)号:CN111190331A

代理人:陈亚男;尹淑梅

主分类号:G03F7/40(20060101)

地址:韩国京畿道水原市

分类号:G03F7/40(20060101);G03F7/30(20060101);G03F7/32(20060101)

优先权:["20181114 KR 10-2018-0139730"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2020.05.22#公开

摘要:公开了基底干燥方法、光致抗蚀剂显影方法、光刻方法和基底干燥系统。可提供基底干燥方法,该基底干燥方法包括在基底上提供干燥液体、增大干燥液体的压力以产生超临界流体和去除超临界流体以干燥基底。

主权项:1.一种基底干燥方法,所述基底干燥方法包括:在基底上提供干燥液体;增大干燥液体的压力以产生超临界流体;以及去除超临界流体以干燥基底。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 三星电子株式会社 基底干燥方法、显影方法、光刻方法和基底干燥系统

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