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【发明授权】基板清洗装置_深圳市柔宇科技有限公司_201780047281.8 

申请/专利权人:深圳市柔宇科技有限公司

申请日:2017-06-27

公开(公告)日:2020-06-23

公开(公告)号:CN109564886B

主分类号:H01L21/67(20060101)

分类号:H01L21/67(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2020.06.23#授权;2019.04.26#实质审查的生效;2019.04.02#公开

摘要:提供了一种基板清洗装置10,包括光清洗室11、循环水清洗装置17及载水容器15;光清洗室11用于对基板100进行光清洗,并容纳在光清洗的过程中生成的臭氧,光清洗室11与载水容器15连通,使得臭氧能够导入载水容器15,以对载水容器15内的水进行杀菌消毒;载水容器15内的水能够流入循环水清洗装置17,以供循环水清洗装置17对基板100进行水清洗。通过将光清洗室内生成的多余臭氧导入载水容器,对载水容器进行杀菌消毒,保证了循环水清洗装置所用的水干净清洁,从而能够确保基板的洁净无菌;并且,也对多余的臭氧进行了有效利用,避免了多余臭氧直接排出造成的污染。

主权项:1.一种基板清洗装置,其特征在于,包括光清洗室、循环水清洗装置及载水容器;所述光清洗室用于对基板进行光清洗,光清洗室设置光源,不接触基板进行光清洗,光清洗室容纳在所述光清洗的过程中生成的臭氧,待清洗基板进行光清洗后再进入循环水清洗装置进行水清洗,所述光清洗室与所述载水容器连通,使得所述臭氧能够导入所述载水容器,以对所述载水容器内的水进行杀菌消毒;所述载水容器内的水能够流入所述循环水清洗装置,以供所述循环水清洗装置对所述基板进行水清洗。

全文数据:PCT国内申请,说明书已公开。

权利要求:PCT国内申请,权利要求书已公开。

百度查询: 深圳市柔宇科技有限公司 基板清洗装置

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