申请/专利权人:首尔伟傲世有限公司
申请日:2019-10-25
公开(公告)日:2020-07-31
公开(公告)号:CN111470579A
主分类号:C02F1/32(20060101)
分类号:C02F1/32(20060101);A61L9/20(20060101)
优先权:["20181029 KR 10-2018-0129936","20190116 KR 10-2019-0005797"]
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2021.11.09#实质审查的生效;2020.07.31#公开
摘要:本发明公开一种流体处理模组,其包括:排管,提供流体移动的通道,并具有流入口和排出口;光源模组,包括基板和至少一个发光元件,所述发光元件设置在所述基板的前面上,并将处理所述流体的光向所述排管内照射;反射器,设置在所述排管内,对于所述光具有比所述排管高的反射率,并反射从所述光源模组射出的所述光;以及封装部件,封装所述排管,并散发所述光源模组的热。
主权项:1.一种流体处理模组,包括:排管,提供流体移动的通道,并具有流入口和排出口;光源模组,包括基板和至少一个发光元件,所述发光元件设置在所述基板的前面上,并将处理所述流体的光向所述排管内照射;反射器,设置在所述排管内,对于所述光具有比所述排管高的反射率,并反射从所述光源模组射出的所述光;以及封装部件,封装所述排管,并散发所述光源模组的热。
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