申请/专利权人：武汉华星光电技术有限公司

申请日：2020-06-29

公开（公告）日：2020-09-15

公开（公告）号：CN111665670A

主分类号：G02F1/1362(20060101)

分类号：G02F1/1362(20060101);G02F1/1343(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.05.31#授权;2020.10.13#实质审查的生效;2020.09.15#公开

摘要：本申请实施例提供一种阵列基板和显示面板，该阵列基板通过采用金属层形成第一公共走线，而无需采用栅极层形成公共走线，从而在湿蚀刻栅极层时，蚀刻液不会残留，扫描线和公共走线均不会被残留的蚀刻液蚀刻，从而解决了现有液晶显示面板中由于栅极层存在公共走线，导致对栅极层进行湿蚀刻时，出现扫描线和公共走线宽度较小甚至断裂的技术问题。

主权项：1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底；金属层，设置于所述衬底上，所述金属层图案化形成有第一公共走线；缓冲层，设置于所述金属层上；有源层，设置于所述缓冲层上；栅极绝缘层，设置于所述有源层上；栅极层，设置于所述栅极绝缘层上；层间绝缘层，设置于所述栅极层上；源漏极层，设置于所述层间绝缘层上，所述源漏极层图案化形成有源漏极和第二公共走线；平坦化层，设置于所述源漏极层上；公共电极层，设置于所述平坦化层上；其中，所述阵列基板还包括第一过孔、第二过孔和第三过孔，所述第一过孔和所述第二过孔穿过所述缓冲层、栅极绝缘层和层间绝缘层，所述第三过孔穿过所述平坦化层，第二公共走线通过所述第一过孔与所述第一公共走线连接，所述第一公共走线通过所述第二过孔与所述第二公共走线连接，所述第二公共走线通过所述第三过孔与所述公共电极层连接。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 武汉华星光电技术有限公司 阵列基板和显示面板

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