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【发明公布】基板处理装置和直列式基板处理系统_显示器生产服务株式会社_202010225953.3 

申请/专利权人:显示器生产服务株式会社

申请日:2020-03-26

公开(公告)日:2020-10-20

公开(公告)号:CN111799193A

主分类号:H01L21/67(20060101)

分类号:H01L21/67(20060101)

优先权:["20190409 KR 10-2019-0041596"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2020.11.06#实质审查的生效;2020.10.20#公开

摘要:本发明提供可以同时执行基板的干燥及表面处理、利用较少能量而能够有效地进行基板处理的基板处理装置和直列式基板处理系统。包括:第一干燥单元,加热流入到内部的空气,向被传送的基板侧放热,使基板一次干燥;第二干燥单元,沿基板的传送方向与第一干燥单元邻接地配置,使在第一干燥单元的内部被加热的空气流入到其内部,并向通过第一干燥单元的基板喷射被加热的空气,使基板二次干燥;表面处理单元,沿基板的传送方向与第二干燥单元邻接地配置,照射用于生成使用于基板表面改性的反应气体的光,当通过第二干燥单元喷射被加热的空气时,包括反应气体的至少一部分的空气沿表面处理单元的下部和第二干燥单元的下部一起被喷射。

主权项:1.一种基板处理装置,其特征在于,包括:第一干燥单元,加热流入到内部的空气,向被传送的基板侧放热,以进行基板的一次干燥;第二干燥单元,沿基板的传送方向与所述第一干燥单元相邻地配置,其内部流入在所述第一干燥单元的内部被加热的空气并喷射至通过所述第一干燥单元的基板,以进行基板的二次干燥;以及表面处理单元,沿基板的传送方向与所述第二干燥单元相邻地配置,照射用于生成使用于基板的表面改性的反应气体的光,所述基板处理装置设置成,当通过所述第二干燥单元喷射被加热的空气时,包括所述反应气体的至少一部分空气沿所述表面处理单元的下部和所述第二干燥单元的下部一起被喷射。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 显示器生产服务株式会社 基板处理装置和直列式基板处理系统

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