申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2019-04-19

公开（公告）日：2021-01-08

公开（公告）号：CN112204472A

主分类号：G03F7/20(20060101)

分类号：G03F7/20(20060101);G02B27/00(20060101)

优先权：["20180528 EP 18174565.4","20180806 EP 18187515.4"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.06.15#实质审查的生效;2021.01.08#公开

摘要：一种用于向EUV光刻设备提供氧气O2的气体流量控制系统，该气体流量控制系统包括：被配置为连接到第一气体源的第一入口，第一气体包括氧气O2；被配置为连接到第二气体源的第二入口，第二气体不包含任何O2气体；气体流量控制系统被配置为混合第一气体和第二气体以获得包括稀释的氧气O2的混合气体；气体流量控制系统还包括：被配置为将第一量的混合气体输出到EUV光刻设备的内部的第一出口；以及被配置为将第二量的混合气体输出到EUV光刻设备外部的收集容器的第二出口。

主权项：1.一种用于向EUV光刻设备提供氧气O2的气体流量控制系统，所述气体流量控制系统包括：第一入口，被配置为连接到第一气体源，所述第一气体包括氧气O2；第二入口，被配置为连接到第二气体源，所述第二气体不包含任何O2气体；所述气体流量控制系统被配置为将第一量的所述第一气体和第一量的所述第二气体混合以获得包括稀释的氧气O2的混合气体；所述气体流量控制系统还包括：第一出口，被配置为将第一量的所述混合气体输出到所述EUV光刻设备的内部，以及第二出口，被配置为将第二量的所述混合气体输出到所述EUV光刻设备外部的收集容器。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 光刻设备

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