申请/专利权人：株式会社斯库林集团

申请日：2020-07-06

公开（公告）日：2021-02-23

公开（公告）号：CN112397415A

主分类号：H01L21/67(20060101)

分类号：H01L21/67(20060101)

优先权：["20190816 JP 2019-149433"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.03.12#实质审查的生效;2021.02.23#公开

摘要：本发明提供一种能够容易地清理腔室内的污染的热处理装置及热处理装置的洗净方法。随着成为产品的半导体晶圆的处理在热处理装置1中进行，污染物质附着在腔室6的内壁面上。当半导体晶圆的处理结束后，向腔室6内供给包含臭氧的气体而形成包含臭氧的氛围。一边通过来自卤素灯HL的光照射对包含臭氧的氛围进行加热，一边从闪光灯FL照射包含紫外线光的闪光。利用紫外线光分解臭氧而生成活性氧，该活性氧与污染物质发生反应，由此从腔室6的内壁面分解去除污染物质。经分解而气化的污染物质通过排出腔室6内的氛围气体而排出至腔室6外。

主权项：1.一种热处理装置，其特征在于：通过对衬底照射光而对该衬底进行加热，且具备：腔室，收容衬底；晶座，在所述腔室内保持所述衬底；连续点亮灯，对所述腔室内照射光而对保持在所述晶座的所述衬底进行加热；紫外线灯，对所述腔室内照射包含紫外线光的光；及气体供给部，向所述腔室内供给包含臭氧的气体；且一边使所述衬底的处理结束后的所述腔室内成为包含臭氧的氛围，一边从所述紫外线灯照射包含紫外线光的光。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 株式会社斯库林集团 热处理装置及热处理装置的洗净方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD