申请/专利权人：长江存储科技有限责任公司

申请日：2020-12-22

公开（公告）日：2021-04-09

公开（公告）号：CN112631069A

主分类号：G03F1/42(20120101)

分类号：G03F1/42(20120101);G03F1/44(20120101);G03F7/20(20060101)

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.04.27#实质审查的生效;2021.04.09#公开

摘要：本发明提供了一种掩膜板和修正套刻精度的方法。该掩膜板包括相互分离的第一图形区域和或第二图形区域，第一图形区域和第二图形区域均包括曝光图形，曝光图形包括：多个曝光单元组，各曝光单元组包括多个曝光单元，各曝光单元组的曝光单元以相同的对称中心呈中心对称设置；平移至相同对称中心的第一图形区域的曝光图形和第二图形区域的曝光图形无重叠。采用上述掩膜板可以在参考层上形成多个第一对准标记图形，并在当前层上形成多个第二对准标记图形，并灵活地获取任意一组或多组未变形的第一对准标记单元和第二对准标记单元的光信号，从而避免了由于掩膜板损伤而导致的对套刻精度测量的影响。

主权项：1.一种掩膜板，包括相互分离的第一图形区域和或第二图形区域，其特征在于，所述第一图形区域和所述第二图形区域均包括曝光图形，所述曝光图形包括：多个曝光单元组，各所述曝光单元组包括多个曝光单元，各所述曝光单元组的曝光单元以相同的对称中心呈中心对称设置；平移至相同对称中心的所述第一图形区域的曝光图形和所述第二图形区域的曝光图形无重叠。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 长江存储科技有限责任公司 掩膜板和修正套刻精度的方法

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