【发明公布】基板处理装置和基板处理方法_东京毅力科创株式会社_202011059075.9 

申请/专利权人:东京毅力科创株式会社

申请日:2020-09-30

发明/设计人:佐藤正律;佐藤吉宏;窪田真树

公开(公告)日:2021-04-13

代理机构:北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)

公开(公告)号:CN112652514A

代理人:刘新宇;张会华

主分类号:H01J37/32(20060101)

地址:日本东京都

分类号:H01J37/32(20060101);C23C16/04(20060101);C23C16/458(20060101)

优先权:["20191011 JP 2019-188116"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2021.04.13#公开

摘要:本发明提供基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置和基板处理方法能够确保随着基板的大型化而同样大型化的、保护基板的边缘部的保护框的刚性,并且能够实现面内均匀的成膜。一种在处理容器内对基板进行处理的基板处理装置,其中,该基板处理装置具有:保护框,其具有环状的主体部和向所述主体部的内侧伸出的环状的遮檐部;基板载置台,其具有载置基板的载置面和在所述载置面的周围自所述载置面凹下的环状的台阶部,所述主体部能够收纳于所述台阶部;以及升降机构,其支承所述主体部并使所述保护框相对于所述基板载置台升降,在所述主体部收纳于所述台阶部时,所述遮檐部的顶端定位在载置于所述载置面的所述基板的边缘部的上方。

主权项:1.一种基板处理装置,其在处理容器内对基板进行处理,其中,该基板处理装置具有:保护框,其具有环状的主体部和向所述主体部的内侧伸出的环状的遮檐部;基板载置台,其具有载置基板的载置面和在所述载置面的周围自所述载置面凹下的环状的台阶部,所述主体部能够收纳于所述台阶部;以及升降机构,其支承所述主体部并使所述保护框相对于所述基板载置台升降,在所述主体部收纳于所述台阶部时,所述遮檐部的顶端定位在载置于所述载置面的所述基板的边缘部的上方。

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