申请/专利权人：大塚电子株式会社

申请日：2020-10-23

公开（公告）日：2021-04-27

公开（公告）号：CN112710634A

主分类号：G01N21/47(20060101)

分类号：G01N21/47(20060101);G01N21/59(20060101);G01B11/06(20060101)

优先权：["20191024 JP 2019-193275"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2022.08.05#实质审查的生效;2021.04.27#公开

摘要：一种能更准确地测量测量对象物的透射率或反射率的光学测量装置及光学测量方法。光学测量装置具备：照射光学系统，向对象区域以直线状照射包含多个波长的照射光；受光光学系统，接收通过向对象区域照射照射光而从对象区域产生的作为透射光或反射光的测量光；以及计算部，基于受光光学系统中的测量光的受光结果生成受光光谱并基于生成的受光光谱计算出配置于测量区域的测量对象物的每一波长下的透射率或反射率，计算部根据基于从不存在测量对象物时的测量区域产生的测量光的第一基准光谱、基于从非测量区域产生的测量光的第二基准光谱以及基于从存在测量对象物时的测量区域产生的测量光的测量光谱，计算出测量对象物的透射率光谱或反射率光谱。

主权项：1.一种光学测量装置，其特征在于，具备：照射光学系统，向对象区域以直线状照射包含多个波长的照射光，所述对象区域包括测量区域和作为与所述测量区域不同的区域的非测量区域；受光光学系统，接收通过向所述对象区域照射所述照射光而从所述对象区域产生的作为透射光或反射光的测量光；以及计算部，基于所述受光光学系统中的所述测量光的受光结果，生成所述对象区域中的每一位置的、作为波长与所述测量光的强度的关系的受光光谱，并基于生成的所述受光光谱，计算出配置于所述测量区域的测量对象物的每一波长下的透射率或反射率，所述计算部基于第一基准光谱、第二基准光谱以及测量光谱，计算出所述测量对象物的透射率光谱或反射率光谱，所述第一基准光谱是基于在所述测量区域中不存在所述测量对象物时从所述测量区域产生的所述测量光的所述受光光谱，所述第二基准光谱是基于从所述非测量区域产生的所述测量光的所述受光光谱，所述测量光谱是基于在所述测量区域中存在所述测量对象物时从所述测量区域产生的所述测量光的所述受光光谱。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 大塚电子株式会社 光学测量装置及光学测量方法

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