申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2019-12-16

公开（公告）日：2021-07-23

公开（公告）号：CN113168020A

主分类号：G02B27/42(20060101)

分类号：G02B27/42(20060101);G02B27/01(20060101);G02B30/00(20060101)

优先权：["20181217 US 62/780,792"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.08.25#授权;2021.11.19#实质审查的生效;2021.07.23#公开

摘要：本公开内容的实施方式大致涉及形成光栅的方法。该方法包括在设置于基板上的光栅材料上沉积抗蚀材料，将该抗蚀材料图案化为抗蚀层，投射第一离子束至第一元件区域以形成第一组多个光栅，及投射第二离子束至第二元件区域以形成第二组多个光栅。利用图案化抗蚀层允许在大区域上投射离子束，此举往往比将离子束聚焦在特定区域中更容易。

主权项：1.一种形成光栅的方法，包含下列步骤：在设置于基板上的光栅材料上沉积抗蚀材料，所述抗蚀材料具有第一元件区域及第二元件区域；将所述抗蚀材料图案化为抗蚀层；投射第一离子束至所述第一元件区域达第一时间段以在所述光栅材料中形成第一组多个光栅，所述第一离子束与所述基板的表面成第一角度，所述第一离子束具有第一离子束轮廓；及投射第二离子束至所述第二元件区域达第二时间段以在所述光栅材料中形成第二组多个光栅，所述第二离子束与所述基板的所述表面成第二角度，所述第二离子束具有第二离子束轮廓，其中所述第一离子束轮廓及所述第二离子束轮廓中的至少一者不是均匀的。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 用于形成光栅的方法

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