申请/专利权人：北京润和微光科技有限公司

申请日：2021-08-27

公开（公告）日：2021-11-19

公开（公告）号：CN113671692A

主分类号：G02B27/00(20060101)

分类号：G02B27/00(20060101);G02B5/18(20060101);G02B27/09(20060101)

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.12.07#实质审查的生效;2021.11.19#公开

摘要：本发明公开了一种平顶光斑整形元件制备方法、元件和激光加工设备，该方法包括：根据光强描述模型和模拟退火优化算法，得到圆形达曼光栅元件的光栅结构参数；根据所述光栅结构参数，生成光刻掩模版文件；根据所述光刻掩模版文件对石英基片上的光刻胶进行加工处理，以得到与所述光刻掩模版文件对应的光刻胶图案；将所述光刻胶图案转移到石英片上；去除所述石英片上多余的光刻胶，以得到平顶光斑整形元件。如此，可以利用圆形达曼光栅元件实现平顶光斑整形元件的制备，进而可以通过用圆形达曼光栅结构去实现平顶光束的整形，可靠性高，便于生产。

主权项：1.一种平顶光斑整形元件制备方法，其特征在于，包括：根据光强描述模型和模拟退火优化算法，得到圆形达曼光栅元件的光栅结构参数；根据所述光栅结构参数，生成光刻掩模版文件；根据所述光刻掩模版文件对石英基片上的光刻胶进行加工处理，以得到与所述光刻掩模版文件对应的光刻胶图案；将所述光刻胶图案转移到石英片上；去除所述石英片上多余的光刻胶，以得到平顶光斑整形元件。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京润和微光科技有限公司 一种平顶光斑整形元件制备方法、元件和激光加工设备

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