申请/专利权人:华海清科股份有限公司
申请日:2022-07-15
公开(公告)日:2022-09-23
公开(公告)号:CN115091353A
主分类号:B24B37/10
分类号:B24B37/10;B24B37/04;B24B57/02;B24B37/005
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2022.11.08#授权;2022.10.14#实质审查的生效;2022.09.23#公开
摘要:本发明公开了一种抛光液调整方法和化学机械抛光设备,其中方法包括:初始数据获取步骤,获取抛光垫的初始厚度以及对应的抛光液的初始流量;流量调整步骤,获取抛光垫厚度的变化量,根据抛光垫厚度的变化量,计算需要调整的抛光液的流量。本发明能够根据抛光垫的厚度变化,对抛光液的流量进行准确的定量调整,以维持抛光液在抛光垫表面的分布形状和厚度形貌保持稳定,从而保证晶圆抛光速率和抛光后晶圆形貌的一致性,同时节省抛光液。
主权项:1.一种抛光液调整方法,其特征在于,包括:初始数据获取步骤,获取抛光垫的初始厚度以及对应的抛光液的初始流量;流量调整步骤,获取抛光垫厚度的变化量,根据抛光垫厚度的变化量,计算需要调整的抛光液的流量。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 华海清科股份有限公司 一种抛光液调整方法和化学机械抛光设备
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