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【发明公布】一种原位监测辐照放电表面成键态断层剖面的方法_西安空间无线电技术研究所_202211177005.2 

申请/专利权人:西安空间无线电技术研究所

申请日:2022-09-26

公开(公告)日:2023-01-24

公开(公告)号:CN115639237A

主分类号:G01N23/2273

分类号:G01N23/2273;G01N1/32;G01B21/18

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.02.14#实质审查的生效;2023.01.24#公开

摘要:一种原位监测辐照放电表面成键态断层剖面的方法,在设定的真空度环境下,包括:将样品底部连接示波器,判定不同能量电子辐照下样品表面是否发生放电,确定电子辐照门限值;采用原位Ar+离子刻蚀的方法对样品表面的断层剖面进行刻蚀,并标定刻蚀速率;选择辐照条件超过电子辐照门限值,对样品进行辐照;然后对样品表面进行逐步刻蚀,采用XPS获得不同刻蚀深度剖面的表面结合能谱。本发明所提出的原位成键态剖面的测试方法,极大的突破了电子辐照放电后原位表征的限制,能获得前所未有的测试结果。

主权项:1.一种原位监测辐照放电表面成键态断层剖面的方法,其特征在于,在设定的真空度环境下,包括:将样品底部连接示波器,判定不同能量电子辐照下样品表面是否发生放电,确定电子辐照门限值;采用原位Ar+离子刻蚀的方法对样品表面的断层剖面进行刻蚀,并标定刻蚀速率;选择辐照条件超过电子辐照门限值,对样品进行辐照;然后对样品表面进行逐步刻蚀,采用XPS获得不同刻蚀深度剖面的表面结合能谱。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 西安空间无线电技术研究所 一种原位监测辐照放电表面成键态断层剖面的方法

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