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【发明授权】一种香槟金色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法_咸宁南玻节能玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司_201710264045.3 

申请/专利权人:咸宁南玻节能玻璃有限公司;中国南玻集团股份有限公司

申请日:2017-04-21

公开(公告)日:2023-03-21

公开(公告)号:CN106904842B

主分类号:C03C17/36

分类号:C03C17/36

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2023.03.21#授权;2017.07.25#实质审查的生效;2017.06.30#公开

摘要:本发明提供了一种香槟金色双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法,属于镀膜玻璃生产技术领域。它解决了现有镀膜玻璃折射率高、清透性差等技术问题。本镀膜玻璃包括玻璃基片层和镀膜层,所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十一个膜层,其中第一层为ZnO层,第二层为SiNx层,第三层为ZnO层,第四层为Ag层,第五层为NiCr层,第六层为AZO层,第七层为SiNx层,第八层为ZnO层,第九层为Ag层,第十层为NiCr层,第十一层为SiNx层。本发明具有折射率低、清透性好等优点。

主权项:1.一种香槟金色双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于,所述镀膜玻璃包括玻璃基片层(a)和镀膜层,所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十一个膜层,其中第一层(1)为ZnO层,镀膜厚度为:5~10nm;第二层(2)为SiNx层,镀膜厚度为:10~15nm;第三层(3)为ZnO层,镀膜厚度为:8~12nm;第四层(4)为Ag层,镀膜厚度为:5~10nm;第五层(5)为NiCr层,镀膜厚度为:1.0~3.0nm;第六层(6)为AZO层,镀膜厚度为:1~4nm;第七层(7)为SiNx层,镀膜厚度为:15~25nm;第八层(8)为ZnO层,镀膜厚度为:30~35nm;第九层(9)为Ag层,镀膜厚度为:1~8nm;第十层(10)为NiCr层,镀膜厚度为:2~4nm;第十一层(11)为SiNx层,镀膜厚度为:35~40nm;镀膜层总厚度控制在140~150nm之间。

全文数据:一种香槟金色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法技术领域[0001]本发明属于镀膜玻璃生产技术领域,涉及一种香槟金色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法。背景技术[0002]现有技术中的LOW-E玻璃的生产工艺是在优质浮法基片上镀制以Ag为功能层,包含介质层和其它金属层的多层膜系。若按照功能层银的层数来进行划分,Low-E玻璃可以分为单银Low-E玻璃、双银Low-E玻璃、三银Low-E玻璃。目前,单银、双银都是建筑玻璃领域比较成熟的节能方案,三银节能玻璃节能效果优于双银和单银,但三银玻璃膜层结构复杂,工艺控制难度大,因而成本较高。近年来市场上真正能够量产三银的厂家不多,且可供选择的三银品种也不如双银、单银丰富。[0003]随着市场逐渐成熟,同质化竞争日趋明显,客户对幕墙的外观颜色呈多样化需求,如何开发出迎合市场需求的产品十分关键,最近几年金色作为一种外观靓丽,代表着尊贵、奢华、大气的色彩而受到了人们的追捧,市场上涌现出一系列各具特色的金色基调色彩特别是在手机行业,各种精心调制的色彩成为吸引人眼球的一大亮点),针对这一特点本发明在原有金色双银基础上进行细致的膜层调试,在双银膜系的色彩中注入了典雅的新元素--香槟金双银。[0004]现有的低辐射镀膜玻璃存在如下缺陷:[0005]1现有的金色双银色彩单一,反射率亮度高容易形成视觉疲劳。[0006]2现有的金色双银膜系普遍透过率较低,遮阳系数较低,影响室内采光。发明内容[0007]本发明的目的是针对现有的技术存在的上述问题,提供一种香槟金色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法,本发明所要解决的技术问题是如何降低玻璃的反射率、提高透过率。[0008]本发明的目的可通过下列技术方案来实现:一种香槟金色双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于,所述镀膜玻璃包括玻璃基片层和镀膜层,所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十一个膜层,其中第一层为ZnO层,第二层为SiNx层,第三层为ZnO层,第四层为Ag层,第五层为NiCr层,第六层为AZ0层,第七层为SiNx层,第八层为ZnO层,第九层为Ag层,第十层为NiCr层,第^一层为SiNx层。[0009]其中第一层、第二层和第三层为第一电介质组合层,第四层为低辐射功能层,第五层为第一阻挡保护层,第六层为晶床介质层,第七层和第八层为第二电介质组合层,第九层为低辐射功能层,第十层为第二阻挡保护层,第^^一层为第三电介质层。通过通过设置第五层和第十层,即第一阻挡保护层和第二阻挡保护层来降低镀膜玻璃的反射率,通过设置的第六层,即晶床介质层来提高镀膜玻璃的透光性。[0010]—种香槟金色双银低辐射镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,本加工方法包括如下步骤:[0011]1、磁控溅射镀膜层;[0012]A、磁控溉射第一层:[0013]靶材数量:父流旋转祀1个;靶材料*ZnA1;工艺气体比例:氩气和氧气,氩气和氧气的比例为1:2,派射气压为3〜5Xlr3mbar;镀膜厚度为:5〜10nm;[0014]B、磁控溉射第二层:[0015]靶材数量:交流旋转靶2〜3个;靶材料为SiAl;工艺气体比例:氩气和氧气,氩气和氧气的比例为1•28:1,溅射气压为3〜5Xl〇-3mbar;镀膜厚度为:10〜15nm;[0016]C、磁控溉射第三层:[0017]靶材数量:父流旋转靶1个;靶材料为ZnAl;工艺气体比例:氩气和氧气,氩气和氧气的比例为1:2,溉射气压为3〜5Xl〇-3mbar;镀膜厚度为:8〜12nm;[0018]D、磁控溅射第四层:[0019]靶材数量:直流平面靶1个;靶材料为Ag;工艺气体比例:纯氩气,派射气压为2〜3X10-3mbar;镀膜厚度为:5〜l〇nm;[0020]E、磁控溅射第五层:[0021]靶材数y:交流旋转靶1个;靶材料为NiCr;工艺气体比例:纯氩气,派射气压为2〜3XlT3mbar;镀膜厚度为:1•0〜3•〇nm;作为第一阻挡保护层,用来降低镀膜玻璃的反射率。[0022]F、磁控溉射第六层:[0023]靶材数量:交流旋转靶1个;靶材料为AZO;工艺气体比例:纯氩气,派射气压为3〜5X10_3mbar;镀膜厚度为:1〜4nm;通过设置的第六层,即晶床介质层来提高镀膜玻璃的透光性。[0024]G、磁控溅射第七层:[0025]祀材数量:交流旋转祀2〜4个;祀材料为SiAl;工艺气体比例:氩气和氮气,氩气和氮气的比例为1.28:1,派射气压为3〜5Xl〇-3mbar;镀膜厚度为:15〜25nm;[0026]H、磁控灘射第八层:[0027]靶材数量:交流旋转靶3〜5个;靶材料为ZnAl;工艺气体比例:氩气和氧气,氩气和氧气比例为1:2,派射气压为3〜5X1〇-3mbar;镀膜厚度为:30〜35nm;[0028]I、磁控派射第九层:[0029]靶材数量:交流旋转靶1个;靶材料为Ag;工艺气体比例:纯氩气,派射气压为2〜3X10—3mbar;镀膜厚度为:1〜2nm;_0]直流旋转祀1个;祀材料为Ag;工艺气体比例:纯氩气,溅射气压为2〜3Xl〇_3mbar;镀膜厚度为:5〜8nm;[0031]J、磁控派射第十层:[0032]$G材数量:交流旋转$El个;勒材料为NiCr;工艺气体比例:纯氩气;減射气压为2〜3XlT3mbar;镀膜厚度为:2〜4nm;作为第二阻挡保护层,用来降低镀膜玻璃的反射率。[0033]K、磁控派射第十一层:[0034]靶材数量:交流旋转靶4〜5个;靶材料为siAl;工艺气体比例:氩气和氮气,氩气和氮气的比例为1•28:1;溅射气压为3〜5Xl〇-3mbar;镀膜厚度为:35〜40nm;[0035]2、镀膜层总厚度控制在140〜150nm之间。[0036]与现有技术相比,本发明具有以下优点:L〇〇37」1、通fl:通过玫置弟立层和弟十层,即第一阻挡保护层和第二阻挡保护层来降低镀膜玻璃的反射率;[0038]2、通过设置的第六层,即晶床介质层来提高镀膜玻璃的透光性。附图说明[0039]图1是本发明中镀膜玻璃的结构示意图。[0040]图中,a、玻璃基片层1、第一层;2、第二层;3、第三层;4、第四层;5、第五层;6、第六层;7、第七层;8、弟八层;9、第九层;1〇、第十层;11、第十一层。具体实施方式[0041]以下是本发明的具体实施例并结合附图,对本发明的技术方案作进一步的描述,但本发明并不限于这些实施例。[0042]如图1所示,香模金色双银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片层和镀膜层,所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十一个膜层,其中第一层iSZnO层,第二层2为SiNx层,第三层3Zn0层,第四层4为Ag层,第五层5为附层,第六层6为以〇层,第七层7为SiNx层,第八层8为ZnO层,第九层9为Ag层,第十层10为NiCrjg,第十—层丨丨知池层。[0043]其中第一层1、第二层2和第三层3为第一电介质组合层,第四层4为低辐射功能层,第五层5为第一阻挡保护层,弟六层6为晶床介质层,第七层7和第八层8为第二电介质组合层,第九层低福射功能层,第十层1〇为第二阻挡保护层,第^•一层11为第三电介质层。通过通过设置第五层5和第十层10,即第一阻挡保护层和第二阻挡保护层来降低镀膜玻璃的反射率,通过设置的第六层6,即晶床介质层来提高镀膜玻璃的透光性。[0044]—种高清中性色双银低辐射玻璃的制备方法,其特征在于,本加工方法包括如下步骤:[0045]1、磁控溅射镀膜层;[0046]A、磁控滅射第一层1:[0047]祀材数量:交流旋转靶1个;靶材料为ZnA1;工艺气体比例:氩气和氧气,氩气和氧气的比例为1:2,溉射气压为3〜5XlT3mbar;镀膜厚度为:5〜10nm;[0048]B、磁控溅射第二层2:[0049]祀材数量:交流旋转靶2〜3个;靶材料为SiA1;工艺气体比例:氩气和氮气,氩气和氮气的比例为1.28:1,溉射气压为3〜5X1〇-3mbar;镀膜厚度为:10〜15nm;[0050]C、磁控派射第三层3:[0051]靶材数量:交流旋转靶1个;靶材料为ZnAl;工艺气体比例:氩气和氧气,氩气和氧气的比例为1:2,派射气压为3〜5X10-3mbar;镀膜厚度为:8〜12纖;[0052]D、磁控溉射第四层4:[0053]耙材数量:直流旋转靶1个;靶材料为Ag;工艺气体比例:纯氩气,溅射气压为2〜3X10-3mbar;镀膜厚度为:5〜l〇nm;[0054]E、磁控溅射第五层5:[0055]祀材数量:交流旋转靶1个;靶材料SNiCr;工艺气体比例:纯氩气,溅射气压为2〜3X10-3mbar;锻膜厚度为:1.0〜3.0nm;作为第一阻挡保护层,用来降低镀膜玻璃的反射率。[0057]3革巴材父流旋转祀1个;革巴材料为AZO;工艺气体比例:纯氩气,減射气压为3〜5XlT3mbar;镀膜厚度为:1〜4nra;通过设置的第六层,即晶床介质层来提高镀膜玻璃的透光性。[0058]G、磁控滅射第七层7:[0059]靶材数量:交流旋转靶2〜4个;革巴材料为AiA1;工艺气体比例:氣气和氧气,氣气和氧气的比例为1.28:1,派射气压为3〜545%,玻面外观颜色典雅靓丽;2、产品6mm单片透过色私£[-4,-5],b*e[-1.5,-4];3、玻面颜色LG[45,48],a*E[2,2.5],b*G[7,8],玻面小角度60°和正面10°对比,Aa*1.0。[OO72]本文中所描述的具体实施例仅仅是对本发明精神作举例说明。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,但并不会偏离本发明的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。

权利要求:1.一种香槟金色双银低辐射镀膜玻璃,其特征在于,所述镀膜玻璃包括玻璃基片层a和镀膜层,所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十一个膜层,其中第一层(1为ZnO层,第二层⑵为SiNx层,第三层⑶为ZnO层,第四层⑷为Ag层,第五层⑸为NiCr层,第六层6为AZ0层,第七层⑺为SiNx层,第八层⑻为Zn0层,第九层⑼为Ag层,第十层(1〇为NiCr层,第层(11为SiNx层。2.—种香槟金色双银低辐射镀膜玻璃的制备方法,其特征在于,本制备方法包括如下步骤:1、磁控溅射镀膜层;A、磁控溅射第一层1:靶材数量:交流旋转靶1个;靶材料为ZnAl;工艺气体比例:氩气和氧气,氩气和氧气的比例为1:2,派射气压为3〜5X1T3mbar;镀膜厚度为:5〜1Onm;B、磁控派射第二层2:靶材数量:交流旋转靶2〜3个;靶材料为SiAl;工艺气体比例:氩气和氮气,氩气和氮气的比例为1_28:1,鹏射气压为3〜5Xl〇_3mbar;镀膜厚度为:10〜15nm;C、磁控減射第三层3:靶材数量:交流旋转靶1个;靶材料为ZnAl;工艺气体比例:氩气和氧气,氩气和氧气的比例为1:2,溅射气压为3〜5XlT3mbar;镀膜厚度为:8〜12nm;D、磁控濺射第四层⑷:靶材数量:直流旋转靶1个;靶材料为Ag;工艺气体比例:纯氩气,溅射气压为2〜3x1〇_3mbar;镀膜厚度为:5〜1〇nm;E、磁控溅射第五层5:靶材数量:交流旋转靶1个;靶材料为NiCr;工艺气体比例:纯氩气,溉射气压为2〜3X10-3mbar;镀膜厚度为:1.0〜3.〇nm。F、磁控溉射第六层6:靶材数量:交流旋转靶1个;靶材料为AZ0;工艺气体比例:纯氩气,漉射气压为3〜5x1〇—3mbar;锻膜厚度为:1〜4nm。G、磁控溅射第七层7:靶材数量:交流旋转靶2〜4个;靶材料为SiAl;工艺气体比例:氩气和氮气,氩气和氮气的比例为1.28:1,溅射气压为3〜5Xl〇-3mbar;镀膜厚度为:15〜25nm.H、磁控派射第八层⑻:靶材数量:交流旋转靶3〜5个;靶材料*ZnA1;工艺气体比例:氩气和氧气,氩气和氧气比例为1:2,濺射气压为3〜5xiT3mbar;镀膜厚度为:3〇〜35nm;I、磁控濺射第九层⑼:磁控派射第九层⑼,交流旋转靶i个;靶材料为Ag;工艺气体比例:纯氩气鹏射2〜3Xl〇-3mbar;镀膜厚度为:卜2咖;’〜、刀或:直流旋转靶1个;靶材料为Ag;工艺气体比例:纯氩气,戮射气压为2〜3x镀膜厚度为:5〜8nm;’J、磁控溅射第十层10:革巴材数量:交流旋转勒11个;祀材料为NiCr;工艺气体比例:纯氩气;戮射气压为2〜3x10—3mbar;镀膜厚度为:2〜4nm。K、磁控派射第^层11:靶材数量:交流旋转靶4〜5个;靶材料为SiAl;工艺气体比例:氩气和氮气,氩气和氮气的比例为1.28:1;溅射气压为3〜5X10-3mbar;镀膜厚度为:35〜40nm;2、镀膜层总厚度控制在140〜150nm之间。

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