申请/专利权人:杭州铂利雅精密机械有限公司
申请日:2023-05-08
公开(公告)日:2023-08-18
公开(公告)号:CN219549615U
主分类号:F16J15/43
分类号:F16J15/43
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2023.08.18#授权
摘要:本实用新型公开了一种HIT镀膜用磁流体密封装置,包括内筒,所述内筒的外部设置有外筒,所述内筒的一侧设置有密封圈,所述内筒的外部设置有均匀结构,所述均匀结构包括有环形槽,所述内筒的外壁开设有环形槽,所述环形槽的外壁贴合有磁吸环的内壁,所述磁吸环的外部设置有安装块,所述安装块的一侧固定连接有电机的一端,所述电机的输出端固定连接有往复丝杆的一端,所述往复丝杆的外壁螺纹连接有螺纹块的内壁,所述螺纹块的底部固定连接有磁吸环的一侧,所述螺纹块的顶部贴合有外筒的内壁,所述磁吸环的一侧固定连接有环形管的一侧,通过设置有均匀结构,使磁流体均匀分布,提高磁场均匀性。
主权项:1.一种HIT镀膜用磁流体密封装置,包括内筒(1),所述内筒(1)的外部设置有外筒(2),所述内筒(1)的一侧设置有密封圈(3),其特征在于:所述内筒(1)的外部设置有均匀结构,所述均匀结构包括有:环形槽(4),所述内筒(1)的外壁开设有环形槽(4),所述环形槽(4)的外壁贴合有磁吸环(5)的内壁,所述磁吸环(5)的外部设置有安装块(6);电机(7),所述安装块(6)的一侧固定连接有电机(7)的一端,所述电机(7)的输出端固定连接有往复丝杆(8)的一端,所述往复丝杆(8)的外壁螺纹连接有螺纹块(9)的内壁。
全文数据:
权利要求:
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