申请/专利权人：罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司

申请日：2021-03-12

公开（公告）日：2023-12-15

公开（公告）号：CN113442057B

主分类号：B24B37/26

分类号：B24B37/26;B24B1/00

优先权：["20200325 US 16/829024"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.12.15#授权;2021.10.22#实质审查的生效;2021.09.28#公开

摘要：一种可用于化学机械抛光的抛光垫包括具有顶侧的基垫和在所述基垫的所述顶侧上的多个突起结构，所述突起结构中的每一个具有主体，其中所述主体具有i限定所述突起结构的外部形状的外周表面，ii限定中心腔的内部表面以及iii限定初始抛光表面积的顶部表面，其中所述主体在其中进一步具有从所述腔至所述外周表面的开口。

主权项：1.一种可用于化学机械抛光的抛光垫，所述抛光垫包括：具有顶侧的基垫，在所述基垫的所述顶侧上的多个突起结构，所述突起结构中的每一个具有主体，其中所述主体具有i限定所述突起结构的外部形状的外周表面，ii限定中心腔的内部表面以及iii限定初始抛光表面积的顶部表面，其中所述主体在其中进一步具有从所述腔至所述外周表面的开口，外周表面的开口的尺寸大于腔的开口的尺寸，以及开口是在竖直方向上的交替区域中，以及其中，外周表面的开口以互补方式布置。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 带有具有设计的开放空隙空间的突起结构的CMP抛光垫

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