申请/专利权人：科磊股份有限公司

申请日：2021-05-04

公开（公告）日：2024-02-20

公开（公告）号：CN115485628B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;G03F1/84;G01N21/956;G01N21/95;G01N21/88;G06T7/00;G06V10/764

优先权：["20200504 US 63/019,445","20210430 US 17/246,034"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.02.20#授权;2023.05.12#实质审查的生效;2022.12.16#公开

摘要：本发明提供用于检测光罩上的缺陷的系统和方法。一种系统包含配置成用于在对具有使用光罩在光刻工艺中印刷的特征的晶片执行检验工艺期间在前端处理中执行至少一个重复缺陷检测步骤的计算机子系统。在所述前端处理中执行的所述至少一个重复缺陷检测步骤包含识别通过双重检测在两个或更多个测试图像中的对应位置处检测到的任何缺陷及通过堆叠缺陷检测检测到的任何缺陷作为第一重复缺陷候选项。可对所述第一重复缺陷候选项执行一或多个额外重复缺陷检测以产生最终重复缺陷候选项并从所述最终重复缺陷候选项识别所述光罩上的缺陷。

主权项：1.一种配置成检测光罩上的缺陷的系统，其包括：检验子系统，其配置成针对晶片产生图像，其中光罩用于在光刻工艺中将特征印刷在所述晶片上；以及一或多个计算机子系统，其配置成用于：检测包含于所述图像中的至少第一测试图像和第二测试图像中的第一缺陷，其中检测所述第一缺陷包括分别比较所述至少第一测试图像和第二测试图像中的每一个与对应于所述至少第一测试图像和第二测试图像中的所述每一个的两个不同参考图像，且其中所述至少第一测试图像和第二测试图像对应于印刷于所述晶片上的所述光罩上的同一区域的不同例项；通过分别比较针对所述第一测试图像产生的堆叠测试图像与对应于所述堆叠测试图像的两个不同堆叠参考图像而检测至少所述第一测试图像中的堆叠缺陷；通过识别在所述至少第一测试图像和第二测试图像中的两个或更多个中的对应位置处检测到的所述第一缺陷中的任一个和所述堆叠缺陷中的任一个作为第一重复缺陷候选项来执行第一重复缺陷检测；对所述第一重复缺陷候选项执行至少一个额外重复缺陷检测以借此识别最终重复缺陷候选项；以及基于所述最终重复缺陷候选项识别所述光罩上的缺陷。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 科磊股份有限公司 图样检查的重复缺陷检测

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