申请/专利权人：天津膜天膜科技股份有限公司

申请日：2021-04-28

公开（公告）日：2024-02-27

公开（公告）号：CN115245747B

主分类号：B01D65/10

分类号：B01D65/10

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.02.27#授权;2022.11.15#实质审查的生效;2022.10.28#公开

摘要：本发明属于膜修复领域，具体涉及一种补漏剂及用于修补分离膜的方法，补漏剂包括下述质量份组分：高聚物10‑30份，溶剂10‑30份，惰性载体剂40‑80份；所述的高聚物为待修复的分离膜主体材料；所述的惰性载体剂为不能单独溶解分离膜且与分离膜溶剂体系共混的有机溶剂；所述的溶剂为能够溶解所述的高聚物的溶剂。本发明的补漏剂制备简易，耐存储，使用方便。能快速填补漏洞，恢复破损区孔径，延续膜使用寿命。对正常功能区孔径过滤截留性能无影响，膜组件性能影响小。操作方便，可集成化使用。

主权项：1.一种补漏剂用于修补分离膜的方法，包括下述步骤：查询分离膜使用手册或现场实验得到待修复分离膜的泡点压力；将补漏剂通过产水口以低于泡点压力的压力压入膜组件内，正常孔径区域内，补漏剂无法从产水侧跨膜进入原水侧，而在破损区内，补漏剂可通过破损孔隙从待修复分离膜的产水侧进入原水侧；补漏剂在进入原水侧时与原水侧内的不相容液体发生相分离，补漏剂中高聚物在破损区分相后原位聚集填补空洞，当空隙与正常分离膜孔径相近时，补漏剂无法在该压力下透过分离膜，分离膜组件完成修复；所述的补漏剂，包括下述质量份组分：高聚物10-30份，溶剂10-30份，惰性载体剂40-80份；所述的高聚物为待修复的分离膜主体材料；所述的惰性载体剂为不能单独溶解分离膜且与分离膜溶剂体系共混的有机溶剂；所述的溶剂为能够溶解所述的高聚物的溶剂。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 天津膜天膜科技股份有限公司 补漏剂及用于修补分离膜的方法

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