申请/专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方瑞晟科技有限公司

申请日：2022-07-08

公开（公告）日：2024-03-15

公开（公告）号：CN117716522A

主分类号：H01L33/60

分类号：H01L33/60;H01L33/58;F21K9/68;F21Y115/10

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.02#实质审查的生效;2024.03.15#公开

摘要：本申请提供了一种发光面板及其制备方法、发光装置，涉及显示技术领域，该发光面板包括基底；位于所述基底一侧的反射层，所述反射层包括阵列排布的多个凹槽；多个元器件，所述元器件位于所述凹槽中且与所述基底电连接；第一光学膜，位于所述反射层远离所述基底的一侧，所述第一光学膜在所述基底上的正投影覆盖所述反射层在所述基底上的正投影，且所述反射层的至少部分区域与所述第一光学膜直接接触。该发光面板的光利用率高，且结构稳定性高，品质好。

主权项：一种发光面板，其中，包括：基底；位于所述基底一侧的反射层，所述反射层包括阵列排布的多个凹槽；多个元器件，所述元器件位于所述凹槽中且与所述基底电连接；第一光学膜，位于所述反射层远离所述基底的一侧，所述第一光学膜在所述基底上的正投影覆盖所述反射层在所述基底上的正投影，且所述反射层的至少部分区域与所述第一光学膜直接接触。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方瑞晟科技有限公司 发光面板及其制备方法、发光装置

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