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【发明公布】基于聚苯乙烯类碘鎓盐及其光刻胶组合物_中国科学院理化技术研究所_202410160844.6 

申请/专利权人:中国科学院理化技术研究所

申请日:2024-02-05

公开(公告)日:2024-03-15

公开(公告)号:CN117700586A

主分类号:C08F8/30

分类号:C08F8/30;C08F8/18;C08F112/08;G03F7/004

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.02#实质审查的生效;2024.03.15#公开

摘要:本发明提供式I所示基于聚苯乙烯类碘鎓盐及其光刻胶组合物。本发明式I所示聚合物合成过程简单,原料便宜易得;所述苯乙烯碘鎓盐聚合物可用做光刻胶组合物中的主体材料,所得到的图案具有非常高的分辨率和低的线宽粗糙度。所述苯乙烯碘鎓盐聚合物通过改变碘鎓盐结构,使其具有长的吸收波长,因此可以用于深紫外光刻。

主权项:1.一种基于苯乙烯的二芳基碘鎓盐的聚合物,其特征在于,结构如下式I所示: 其中,x和y表示聚合物中两种单体的摩尔含量百分比,x+y=1,0.3<y≤1;s为0、1、2或3;环A选自C6-20芳基或5-20元杂芳基;Ra1相同或不同,各自独立地选自C3-20环烷基、C6-20芳基、5-20元杂芳基、3-20元杂环基、C6-20芳基并3-20元杂环基;所述C3-20环烷基、C6-20芳基、5-20元杂芳基、3-20元杂环基、C6-20芳基并3-20元杂环基任选被一个、两个或更多个Ra’取代,Ra’相同或不同,彼此独立地选自卤素、氧代、硝基、CN、C1-15烷基或C1-15烷氧基;Rb的位置为对位、间位或邻位;Rb选自H、OH、卤素、C1-15烷基、C1-15烷氧基、C6-20芳基;q选自1-5的整数;X–选自卤离子、烷基磺酸根、三氟甲磺酸根、全氟丙基磺酸根、全氟丁基磺酸根、对甲苯磺酸根、四氟硼酸根、六氟磷酸根、双三氟甲烷磺酰亚氨离子。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院理化技术研究所 基于聚苯乙烯类碘鎓盐及其光刻胶组合物

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