申请/专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司

申请日：2021-02-05

公开（公告）日：2024-03-15

公开（公告）号：CN112818625B

主分类号：G06F30/392

分类号：G06F30/392

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.15#授权;2021.06.04#实质审查的生效;2021.05.18#公开

摘要：本发明提供的提供版图及版图修改的方法中，所述版图修改的方法包括以下步骤：初始版图；改变所述初始版图的缩放比例，使得部分间隔距离至目标间隔距离，以得到变更版图；保持部分间隔距离为目标间隔距离，将所述变更版图中的第一版图单元结构和第二版图单元结构的尺寸恢复至原始尺寸，计算出所述第一版图单元结构和第二版图单元结构的坐标数据，并写回数据库中；以及根据数据库中的坐标数据生成目标版图。本发明通过软件自动修改版图，其不仅解决了现有技术中由于工艺窗口太小造成的人力和时间的浪费，使得耗费的人力和物力几乎可以忽略不计，从而降低了成本。

主权项：1.一种版图修改的方法，其特征在于，包括以下步骤：提供初始版图，将所述初始版图的坐标数据记录至数据库中，其中，所述初始版图至少包括第一版图单元结构和第二版图单元结构，相邻的所述第一版图单元结构之间、相邻的所述第二版图单元结构之间以及所述第一版图单元结构和第二版图单元结构之间的间隔距离均为初始间隔距离，所述第一版图单元结构和第二版图单元结构均为原始尺寸；改变所述初始版图的缩放比例，使得相邻的所述第一版图单元结构之间、相邻的所述第二版图单元结构之间、和或所述第一版图单元结构和第二版图单元结构之间的间隔距离至目标间隔距离，以得到变更版图，其中，所述变更版图中的第一版图单元结构和第二版图单元结构均具有变更后尺寸，且所述目标间隔距离与初始间隔距离不同；保持相邻的所述第一版图单元结构之间、相邻的所述第二版图单元结构之间、和或所述第一版图单元结构和第二版图单元结构之间的间隔距离为目标间隔距离，将所述变更版图中的第一版图单元结构和第二版图单元结构的尺寸恢复至原始尺寸，计算出所述第一版图单元结构和第二版图单元结构的坐标数据，并写回数据库中；以及根据数据库中的坐标数据生成目标版图。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海华虹宏力半导体制造有限公司 一种版图及版图修改的方法

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