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【发明公布】CuOx/WSe2异质结界面及其构筑方法、应用_北京科技大学_202311619433.0 

申请/专利权人:北京科技大学

申请日:2023-11-29

公开(公告)日:2024-03-19

公开(公告)号:CN117727817A

主分类号:H01L31/0336

分类号:H01L31/0336;H01L31/112;B82Y15/00;B82Y40/00;H01L31/0224;H01L31/18

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要:本发明提供了一种CuOxWSe2异质结界面及其构筑方法、应用,涉及异质结界面的技术领域,构成该异质结界面的CuOx的颗粒尺寸在10nm以下,其x的取值为0.5~1。本发明解决了亚10nm尺寸的异质结界面敏感、不易产生积极作用、构建工艺复杂以及界面调控易失效的技术问题,达到了构筑工艺简单、重复性高、构筑得到的亚10nm尺寸的CuOxWSe2异质结界面具有极高的空气稳定性、无应力累积,以及没有过多的缺陷和成键态的技术效果,同时其界面相互作用以载流子迁移为主,在光电方面的应用存在较高的潜力。

主权项:1.一种CuOxWSe2异质结界面,其特征在于,所述异质结界面的CuOx的颗粒尺寸在10nm以下;其中,x的取值为0.5~1。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京科技大学 CuOx/WSe2异质结界面及其构筑方法、应用

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