申请/专利权人：浙江工业大学

申请日：2024-01-19

公开（公告）日：2024-03-19

公开（公告）号：CN117718873A

主分类号：B24B31/116

分类号：B24B31/116;B24B31/12;B24B1/00;B24B51/00;B24B49/00;B24B49/16;B24B57/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.05#实质审查的生效;2024.03.19#公开

摘要：本发明提供了多参数自主调节的液膜剪切抛光装置，包括机座，以及抛光盘模块和工件夹持驱动模块；所述工件夹持驱动模块包括用于夹持工件的载物盘；所述载物盘的下侧设有温度传感器和压力传感器，所述抛光液槽的槽壁上设有PH传感器，所述抛光液槽上方设有PH调节模块，所述PH调节模块能够向抛光液槽中添加PH调节剂；抛光时，控制模块通过BP网络神经模型对当前抛光PH值、抛光温度及工件压力进行评估，再通过遗传优化算法寻找最优抛光参数，最后对抛光参数进行自主调节。本发明还提供了多参数自主调节的液膜剪切抛光方法。本发明通过对抛光参数进行自主调节，有效消除加工过程中因抛光环境变化带来的不稳定性，实现高效、高质量、稳定的抛光加工。

主权项：1.多参数自主调节的液膜剪切抛光装置，其特征在于：包括机座1，以及对应设于机座1上的抛光盘模块和工件夹持驱动模块；所述抛光盘模块包括结构化抛光盘2和抛光液槽3；所述抛光液槽3用于放置抛光液，可以由抛光盘驱动装置驱动旋转；所述结构化抛光盘2固定设于抛光液槽3内；所述结构化抛光盘2的上表面成组设有呈放射状分布的楔形槽201；所述工件夹持驱动模块设于结构化抛光盘2上方，其包括用于夹持工件的载物盘4，所述载物盘4可以由载物盘驱动装置驱动旋转，且可以调节高度；所述载物盘4的下侧设有温度传感器5和压力传感器6，所述抛光液槽3的槽壁上设有PH传感器7，所述抛光液槽3上方设有PH调节模块8，所述PH调节模块8能够向抛光液槽3中添加PH调节剂；所述PH调节模块8具有两套，分别用于添加碱性试剂和酸性试剂；所述温度传感器5、压力传感器6、PH传感器7、PH调节模块8，以及抛光盘驱动装置和载物盘驱动装置均与控制模块信号连接；抛光时，温度传感器5、压力传感器6、PH传感器7对抛光过程中抛光液PH值、工件压力和工件附近抛光液温度进行实时检测，并将数据传送给控制模块，控制模块通过BP网络神经模型对当前抛光PH值、抛光温度及工件压力进行评估，再通过遗传优化算法寻找最优抛光参数，最后对抛光参数进行自主调节。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 浙江工业大学 多参数自主调节的液膜剪切抛光装置及抛光方法

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