申请/专利权人：中国科学院沈阳自动化研究所

申请日：2023-12-07

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117741783A

主分类号：G01V3/15

分类号：G01V3/15

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明涉及电磁跟踪系统磁场发生装置及控制方法，磁场发生装置包括平铺设置的多个发射线圈，由相邻的至少三个发射线圈构成等效发射单元；所述等效发射单元中的发射线圈中心共圆且尺寸相同；所述等效发射单元，用于在某一时刻激励，等效为独立的发射单元；相邻时刻激励的等效发射单元具有复用的发射线圈。控制方法为通过脉冲宽度可调的交变脉冲信号，使相邻时刻激励的等效发射单元生成交变磁场。本发明的等效发射单元和发射线圈复用形式，能够增加跟踪区域内的磁场强度，减小跟踪区域内的场强衰减率，进而提升定位跟踪性能。交变脉冲信号能够实现发射线圈生成磁场的稳定控制，以及不同激励时刻切换间的剩余磁场快速消除，提高跟踪定位效率。

主权项：1.电磁跟踪系统磁场发生装置，包括平铺设置的多个发射线圈，其特征在于：由相邻的至少三个发射线圈构成等效发射单元；所述等效发射单元中的发射线圈中心共圆且尺寸相同；所述等效发射单元，用于在某一时刻激励，等效为独立的发射单元；相邻时刻激励的等效发射单元具有复用的发射线圈。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院沈阳自动化研究所 电磁跟踪系统磁场发生装置及控制方法

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