申请/专利权人：哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院)

申请日：2023-12-27

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117747237A

主分类号：H01F5/00

分类号：H01F5/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明公开了一种均匀磁场发生装置及均匀磁场产生方法，所述均匀磁场发生装置包括：第一环形线圈和第二环形线圈；所述第一环形线圈与所述第二环形线圈的中心重叠，且所述第一环形线圈与所述第二环形线圈所处的平面重叠，所述第一环形线圈的第一对称轴长度大于所述第二环形线圈的第二对称轴长度；通入所述第一环形线圈的第一电流与通入所述第二环形线圈的第二电流的电流方向相反，且所述第一电流与所述第二电流的大小不同，使得在两个环形线圈的中心区域内产生均匀磁场。本发明提高了均匀磁场发生装置的空间利用率。

主权项：1.一种均匀磁场发生装置，其特征在于，所述均匀磁场发生装置包括：第一环形线圈和第二环形线圈；所述第一环形线圈与所述第二环形线圈的中心重叠，且所述第一环形线圈与所述第二环形线圈所处的平面重叠，所述第一环形线圈的第一对称轴长度大于所述第二环形线圈的第二对称轴长度；通入所述第一环形线圈的第一电流与通入所述第二环形线圈的第二电流的电流方向相反，且所述第一电流与所述第二电流的大小不同，使得在两个环形线圈的中心区域内产生均匀磁场。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院) 一种均匀磁场发生装置及均匀磁场产生方法

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