申请/专利权人：杭州邦齐州科技有限公司

申请日：2024-01-26

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117741836A

主分类号：G02B1/10

分类号：G02B1/10;G02B5/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明涉及光学材料技术领域，提供了一种低透过、低反射防光晕输入窗及其制备方法。本发明采用真空镀膜的方式在透明输入窗衬底表面镀制多层膜，通过吸收层和介电层薄膜的相位匹配设计，利用吸收层吸收由输入窗入射进来的光，利用介电层降低吸收层对入射光线的反射，从而实现吸收入射和反射到界面的光，以消除杂散光，降低反射率，满足在像增强器上的使用要求。本发明提供的制备方法操作过程简单，适用范围广，并且薄膜厚度控制精确，质量好，产品一致性高，有利于器件的实际应用。并且，本发明制备的防光晕输入窗黑化区域薄膜在宽谱范围内350～1000nm透过率小于0.5％，反射率小于2％，光学性能均优于现有烧氢黑化玻璃的性能。

主权项：1.一种低透过、低反射防光晕输入窗的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在透明输入窗衬底表面进行真空镀膜，形成多层膜结构，得到黑化输入窗；所述透明输入窗衬底为台阶结构；所述多层膜结构包括至少一层介电层和至少一层吸收层，所述介电层和吸收层的折射率不同；与所述透明输入窗衬底表面接触的膜层为介电层，所述多层膜结构的最外层为吸收层；将所述黑化输入窗的上端面和下端面的多层膜结构去除，得到所述低透过、低反射防光晕输入窗。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 杭州邦齐州科技有限公司 一种低透过、低反射防光晕输入窗及其制备方法

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