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【发明公布】防护薄膜、防护膜、带有防护膜的曝光原版、曝光方法、半导体的制造方法和液晶显示板的制造方法_信越化学工业株式会社_202280050110.1 

申请/专利权人:信越化学工业株式会社

申请日:2022-07-28

公开(公告)日:2024-03-22

公开(公告)号:CN117751325A

主分类号:G03F1/62

分类号:G03F1/62;G03F7/20

优先权:["20210730 JP 2021-124967"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要:本发明提供一种防护薄膜及防护膜,所述防护薄膜的特征在于包括具有氮化硼纳米管的膜BNNT膜,所述防护膜为包含防护薄膜以及防护膜框架、且所述防护薄膜经由接着剂设置于所述防护膜框架的一端面的光微影用防护膜,其特征在于,所述防护薄膜包含BNNT膜。根据本发明,可提供一种EUV曝光下的透过率高、耐热性及耐久性优异、且具有耐氢自由基性的防护薄膜及包括所述防护薄膜的防护膜。

主权项:1.一种防护薄膜,其特征在于,包括具有氮化硼纳米管的膜氮化硼纳米管膜。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 信越化学工业株式会社 防护薄膜、防护膜、带有防护膜的曝光原版、曝光方法、半导体的制造方法和液晶显示板的制造方法

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