申请/专利权人：杭州电子科技大学

申请日：2023-12-21

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN117743728A

主分类号：G06F17/10

分类号：G06F17/10;G01N21/41;G01N21/59;G01N21/19

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.09#实质审查的生效;2024.03.22#公开

摘要：本发明涉及基于具有特定四能级结构的手征原子媒质的光学特性分析方法及系统。方法如下：S1、建立具有特定四能级结构的手征原子媒质的模型；S2、根据四能级结构求解密度矩阵方程；S3、在给定的四能级手征原子媒质模型中，确定一阶微扰近似下的四能级解；S4、在四能级手征原子媒质模型中，求解直接极化率和交叉耦合极化率；S5、在四能级手征原子媒质模型中，求取四能级手征原子媒质电磁极化率、磁电耦合手征参数；求取给定的四能级手征原子媒质的折射率。本发明能够准确计算分析具有特定四能级结构手征原子媒质的光学特性参数，能准确地反映出外场及其失谐量对这类四能级手征原子媒质的极化率、手征参数以及折射率等光学特性的影响。

主权项：1.一种四能级手征原子媒质的光学特性分析方法，其特征是按如下步骤进行：S1、建立具有特定四能级结构的手征原子媒质模型；S2、根据四能级结构求解密度矩阵方程；S3、在给定的四能级手征原子媒质模型中，确定一阶微扰近似下的四能级解；S4、在四能级手征原子媒质模型中，求取直接极化率和交叉耦合极化率；S5、在四能级手征原子媒质模型中，求取四能级手征原子媒质电磁极化率、磁电耦合手征参数；求取给定的四能级手征原子媒质的折射率。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 杭州电子科技大学 一种四能级手征原子媒质的光学特性分析方法及系统

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