申请/专利权人：广东捷盟智能装备股份有限公司

申请日：2023-05-16

公开（公告）日：2024-03-22

公开（公告）号：CN116536736B

主分类号：C25D17/02

分类号：C25D17/02;C25D17/12;C25D21/06;C25D21/12

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.22#授权;2024.03.15#著录事项变更;2023.08.22#实质审查的生效;2023.08.04#公开

摘要：本发明公开了一种防导电辊反镀装置,其包括上方开口的若干间隔排列设置的镀液池和若干对安装于镀液池内的阳极板，所述镀液池的开口一侧为进料口、另一侧为出料口，同一对的两所述阳极板相对设置，位于相邻所述镀液池之间位置均设置有上方开口且装有稀硫酸的浸泡池，所述浸泡池内转动式安装有若干导电辊，若干所述导电辊朝膜片输送方向间隔设置，所述镀液池安装有用于驱使各所述导电辊转动的第一驱动组件。本申请具有减少导电辊上出现反镀，提高导电辊的导电效率，进而提高铜膜的质量。

主权项：1.一种防导电辊反镀装置，包括上方开口的若干间隔排列设置的镀液池1和若干对安装于镀液池1内的阳极板11，所述镀液池1的开口一侧为进料口、另一侧为出料口，同一对的两所述阳极板11相对设置，其特征在于，位于相邻所述镀液池1之间位置均设置有上方开口且装有稀硫酸的浸泡池2，所述浸泡池2内转动式安装有若干导电辊21，若干所述导电辊21朝膜片输送方向间隔设置，所述镀液池1安装有用于驱使各所述导电辊21转动的第一驱动组件3；所述浸泡池2的开口位置处架设有进液管33，所述进液管33朝下的一侧开设有出液口331；所述浸泡池2的底部位置安装有集液箱4，所述集液箱4与所述进液管33之间通过输液管34连通，所述输液管34设置有输液泵341，所述集液箱4设置有补液管41；所述浸泡池2内安装有溢流管35，所述溢流管35连通于集液箱4；所述集液箱4安装有用于将硫酸铜溶液中的铜离子去除的反应机构5；所述反应机构5包括：隔离板51、挡板52、通气管53和过滤网54，所述隔离板51安装于集液箱4内，所述隔离板51将集液箱4内的空间分为反应腔42和收集腔43；所述挡板52设有若干，若干所述挡板52竖直设置且位于反应腔42，若干所述挡板52沿隔离板51的长度方向间隔安装于隔离板51，若干所述挡板52和集液箱4之间形成若干反应池48；所述集液箱4对应各所述反应池48的位置均连通用于通硫化氢的所述通气管53；所述隔离板51靠近收集腔43的一侧开设有安装槽511，所述过滤网54安装于隔离板51对应安装槽511的位置；所述隔离板51对应各所述反应池48位置均开设有通孔512，所述通孔512与所述过滤网54之间存在间隙；所述反应机构5还包括：用于控制通孔512启闭的第二驱动组件6；所述溢流管35通过支管44分别连通于各所述反应池48，所述支管44均安装有阀门45，所述输液管34连通于收集腔43，所述补液管41连通于收集腔43。

全文数据：

权利要求：

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