申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2022-06-17

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117813669A

主分类号：H01J37/22

分类号：H01J37/22;H01J37/28;H01J37/317

优先权：["20210707 EP 21184292.7","20210804 EP 21189570.1"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.02#公开

摘要：一种带电粒子装置，被配置为将带电粒子多射束朝向样品投射，包括：带电粒子源，其被配置为发射带电粒子射束；光源，被配置为发射光；以及带电粒子光学设备，其被配置为向样品投射从带电粒子射束导出的带电粒子多射束的子射束；其中，光源被布置为使得光沿着子射束的路径投射穿过带电粒子光学设备，以便照射样品的至少一部分。

主权项：1.一种带电粒子装置，被配置为将带电粒子多射束朝向样品投射，所述带电粒子装置包括：带电粒子源，被配置为发射带电粒子射束；光源，被配置为发射光；带电粒子光学设备，被配置为向所述样品投射从所述带电粒子射束导出的带电粒子多射束的子射束；所述带电粒子设备包括至少一个带电粒子光学元件，所述带电粒子光学元件包括相应的孔径阵列，相应的所述带电粒子光学元件的所述相应的孔径阵列中的孔径对应于所述带电粒子多射束的相应子射束，其中所述光源被布置为使得所述光沿着所述子射束的穿过所述带电粒子光学设备的路径投射，从而沿着所述子射束的穿过所述至少一个带电粒子元件的相应子射束的所述孔径的路径投射，以便照射所述样品的至少一部分。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 带电粒子装置及方法

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