申请/专利权人：青岛旭芯互联科技研发有限公司;东旭科技集团有限公司

申请日：2023-09-27

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN117810068A

主分类号：H01L21/223

分类号：H01L21/223;H01L21/67

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.19#实质审查的生效;2024.04.02#公开

摘要：本申请涉及一种硼扩散工艺及其装置，属于硼扩散掺杂技术领域。一种硼扩散工艺，包括将表面涂覆有硼源的硅片放入反应器中，对硅片依次进行预扩散反应和再扩散反应，使硅片上掺杂的硼元素向片源深处进行扩散掺杂；再扩散反应包括：在水蒸气和氧气氛围下，使硅片的表面发生氧化反应，形成一层氧化物膜；水蒸气和氧气由氢氧合成装置生成。该工艺可以降低产品的异常率，提高作业的稳定性。

主权项：1.一种硼扩散工艺，其特征在于，包括将表面涂覆有硼源的硅片放入反应器中，对所述硅片依次进行预扩散反应和再扩散反应，使所述硅片上掺杂的硼元素向片源深处进行扩散掺杂；所述再扩散反应包括：在水蒸气和氧气氛围下，使所述硅片的表面发生氧化反应，形成一层氧化物膜；所述水蒸气和所述氧气由氢氧合成装置生成。

全文数据：

权利要求：

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