申请/专利权人：奥提赞光晶(上海)显示技术有限公司

申请日：2023-09-14

公开（公告）日：2024-04-02

公开（公告）号：CN220709391U

主分类号：G02B5/18

分类号：G02B5/18;G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.02#授权

摘要：本实用新型公开了一种光栅周期可调的光栅制备装置及曝光系统，光栅周期可调的光栅制备装置包括：基座，具有第一通光孔和第二通光孔；罩体，具有缺口、第三通光孔和第四通光孔；反射镜组件，活动设置于罩体背离基座的一侧；缺口与第一通光孔对应，缺口用于放置光栅原料和导光结构；第三通光孔与第二通光孔对应，第四通光孔位于反射镜对应的位置，自第二通光孔进入的光线依次穿过第三通光孔和第四通光孔照射至反射镜；反射镜组件活动以调整反射到导光结构的光线的角度。本申请中反射镜组件、光栅原料和导光结构均集中到罩体中，结构简单且紧凑，体积较小，且通过反射镜组件的活动实现光栅的光栅周期的调控，调控方便简单。

主权项：1.一种光栅周期可调的光栅制备装置，其特征在于，其包括：基座，具有第一通光孔和第二通光孔；罩体，设置于所述基座，所述罩体具有缺口、第三通光孔和第四通光孔；反射镜组件，活动设置于所述罩体背离所述基座的一侧；其中，所述缺口位于所述第一通光孔对应的位置，所述缺口用于放置光栅原料和导光结构，所述光栅原料位于所述第一通光孔和所述导光结构之间；所述第三通光孔位于所述第二通光孔对应的位置，所述第四通光孔位于所述反射镜对应的位置，自所述第二通光孔进入的光线依次穿过所述第三通光孔和所述第四通光孔照射至反射镜；所述反射镜组件活动以调整反射到所述导光结构的光线的角度，所述导光结构用于将光线照射至所述光栅原料。

全文数据：

权利要求：

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