申请/专利权人:深圳市龙图光罩股份有限公司
申请日:2024-01-30
公开(公告)日:2024-04-09
公开(公告)号:CN117850172A
主分类号:G03F7/20
分类号:G03F7/20
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开
摘要:本申请公开了一种曝光范围扩展方法、装置、终端设备以及存储介质,其曝光范围扩展装置应用于光刻机曝光范围扩展,包括:第一掩模台,所述掩模版基材基固定在所述第一掩模台上方;第二掩模台,所述第二掩模台设置于所述第一掩模台的外围,所述第二掩模台的几何中心和所述第一掩模台的几何中心重合,所述第二掩模台与所述第一掩模台拼接形成同一平面。实现了光刻机曝光范围扩展,提高光刻机对掩模版基材尺寸的兼容性。
主权项:1.一种曝光范围扩展装置,其特征在于,所述曝光范围扩展装置应用于光刻机曝光范围扩展,包括:第一掩模台,所述掩模版基材基固定在所述第一掩模台上方;第二掩模台,所述第二掩模台设置于所述第一掩模台的外围,所述第二掩模台的几何中心和所述第一掩模台的几何中心重合,所述第二掩模台与所述第一掩模台拼接形成同一平面。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 深圳市龙图光罩股份有限公司 曝光范围扩展方法、装置、终端设备以及存储介质
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