申请/专利权人：上海艾深斯科技有限公司

申请日：2024-03-07

公开（公告）日：2024-04-09

公开（公告）号：CN117843516A

主分类号：C07C229/42

分类号：C07C229/42;G03F7/004;C08F2/48;C07C227/08;C07C201/08;C07C205/06;C07C201/12;C07C205/56;C07C205/37

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.26#实质审查的生效;2024.04.09#公开

摘要：本发明涉及光刻胶技术领域，尤其涉及一种适用于KrF光刻胶的光引发剂、制备方法和光刻胶组合物。本发明提供一种适用于KrF光刻胶的光引发剂，该光引发剂由芘硝化后进行烷氧基化，再引入丙烯酸酯基团和二苯胺基团。该光引发剂专门用于KrF（248nm）光刻技术。此化合物设计以增强光吸收效率，并提高聚合物基体的交联密度，从而提升图案的分辨率和对比度。进一步，本发明通过优化胶膜的配方，如调整稳定剂和增塑剂的用量，进一步增强了胶膜的均匀性和附着力。

主权项：1.一种适用于KrF光刻胶的光引发剂，其具有以下的结构式： ；其中R1、R2为C1-C3的烷基，R3为硝基，R4为C1-C3的烷氧基或C1-C3酯基团。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 上海艾深斯科技有限公司 一种适用于KrF光刻胶的光引发剂、制备方法和光刻胶组合物

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