申请/专利权人：滤微科技(上海)有限公司

申请日：2020-10-30

公开（公告）日：2024-04-05

公开（公告）号：CN112248314B

主分类号：B29C35/02

分类号：B29C35/02;B29C35/10;B26F1/00;B29L7/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.05#授权;2022.11.29#著录事项变更;2021.02.09#实质审查的生效;2021.01.22#公开

摘要：本公开涉及一种用于压印纳米孔薄膜的装置和方法。所述装置包括第一压印部件和第二压印部件，第一压印部件和第二压印部件中的至少一者上设置有以预定阵列布置的、呈突起状的多个第一压印元件，当第一压印部件和第二压印部件彼此挤压接触时，多个第一压印元件能够在设置于第一压印部件和第二压印部件之间的薄膜上压印出以预定阵列布置的、孔径大小受控的纳米孔，其中，多个第一压印元件具有相同的尺寸和构造。该装置能够压印出具有以预定阵列布置的、贯穿所述膜体的、孔径基本相同的多个纳米孔的薄膜，该薄膜具有期望的通透度和低流体阻力，从而具有广泛的应用。

主权项：1.一种用于压印薄膜以在薄膜上形成贯穿薄膜的纳米孔的装置，其特征在于，所述装置包括第一压印部件和第二压印部件，其中，所述第一压印部件设置有以预定阵列布置的、呈突起状的多个第一压印元件，所述多个第一压印元件具有相同或基本相同的尺寸和构造并且用于压印纳米孔，其中，所述第二压印部件设置有以预定阵列布置的、呈突起状的多个第二压印元件，所述多个第二压印元件的最大外径比所述多个第一压印元件的最大外径至少大一个量级，以用于压印比所述纳米孔至少大一个量级的微米级的第二孔，并且其中，当所述第一压印部件和第二压印部件彼此挤压接触时，所述多个第一压印元件能够在设置于所述第一压印部件和第二压印部件之间的薄膜的第一面上压印出以所述预定阵列布置的、孔径大小受控的多个纳米孔，而所述多个第二压印元件能够在所述薄膜的与所述第一面相对的第二面上压印出比所述多个纳米孔至少大一个量级的微米级的多个第二孔，每个第二孔被构造成与所述多个纳米孔中的一个或多个组合起来贯穿所述薄膜而彼此连通；其中，所述装置还包括第三压印部件，所述第三压印部件具有光滑表面而不包括任何压印元件，其中，所述第一压印部件、所述第二压印部件和所述第三压印部件均构造成压印辊，所述装置构造成首先通过所述第三压印部件和所述第二压印部件的配合经由所述第二压印部件的多个第二压印元件在所述薄膜的第二面上压印出微米级的所述第二孔、然后通过所述第二压印部件和所述第一压印部件的配合经由所述第一压印部件的多个第一压印元件在所述薄膜的第一面上压印出所述纳米孔；并且其中，设置有所述多个第一压印元件的所述第一压印部件和设置有所述多个第二压印元件的所述第二压印部件均具有弹性，使得所述第一压印部件和所述第二压印部件在受到相应压印元件的挤压时均能够弹性地回缩，以免损坏所述第一压印元件和所述第二压印元件。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 滤微科技(上海)有限公司 用于压印纳米孔薄膜的装置和方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD