申请/专利权人：深圳市芯视佳半导体科技有限公司

申请日：2023-12-27

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117881250A

主分类号：H10K71/00

分类号：H10K71/00;H10K50/81;H01L33/36

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明公开了一种阳极银图案制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1在显示器阳极上制作银膜层；步骤2在银膜层上涂光刻胶；步骤3光刻显影；步骤4干法刻蚀；步骤5去光刻胶；步骤4中干刻工艺腔室充入CH4、H2和Ar，气体CH4流量1‑200sccm，Ar流量1‑200sccm，H2流量1‑200sccm。本发明阳极银图案制作方法，有效解决MicroOLED和MicroLED的银图案小间距工艺需求，提高显示器件分辨率，具有较强的实用性和较好的应用前景。

主权项：1.一种阳极银图案制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1在显示器阳极上制作银膜层；步骤2在银膜层上涂光刻胶；步骤3光刻显影；步骤4干法刻蚀；步骤5去光刻胶；步骤4中干刻工艺腔室充入CH4、H2和Ar，气体CH4流量1-200sccm，Ar流量1-200sccm，H2流量1-200sccm。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳市芯视佳半导体科技有限公司 一种阳极银图案制作方法

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