申请/专利权人：日产化学株式会社

申请日：2022-08-26

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117881629A

主分类号：C01B33/149

分类号：C01B33/149;C01B13/14

优先权：["20210831 JP 2021-141201"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明的课题是提供一种即使在高温或高盐分下分散稳定性也较高的无机氧化物粒子的分散液，尤其是氧化硅粒子的分散液。一种分散体，其是以含有氧化硅的无机氧化物粒子作为分散质，且将液状介质作为分散介质的分散体，所述氧化硅是被水解性硅烷表面修饰了的与硅烷结合的氧化硅，所述分散介质包含所述水解性硅烷的水解物，并且分散介质中的水解性硅烷的水解物中的硅原子摩尔数与无机氧化物粒子表面结合的硅烷的硅原子摩尔数的比例为0.2～30，所述分散体包含Q4结构比所述硅烷的表面修饰之前增加了的所述氧化硅粒子，所述Q4结构是通过Si‑NMR观测到的氧化硅粒子的硅原子间的交联氧相对于硅原子1个为42个的结构。

主权项：1.一种分散体，其是以含氧化硅的无机氧化物粒子作为分散质，且将液状介质作为分散介质的分散体，所述氧化硅是被水解性硅烷表面修饰了的与硅烷结合的氧化硅，所述分散介质包含所述水解性硅烷的水解物，并且分散介质中的水解性硅烷的水解物中的硅原子摩尔数与无机氧化物粒子表面结合的硅烷的硅原子摩尔数的比例为0.2～30，所述分散体包含的所述含氧化硅的无机氧化物粒子的Q4结构比被所述硅烷表面修饰之前增加了，所述Q4结构是通过Si-NMR观测到的氧化硅粒子的硅原子间的交联氧相对于1个硅原子为42个的结构。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 日产化学株式会社 含表面处理氧化硅的无机氧化物粒子分散液和其制造方法

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