申请/专利权人：杰力科技股份有限公司

申请日：2022-12-08

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117878134A

主分类号：H01L29/06

分类号：H01L29/06;H01L29/10;H01L21/28;H01L29/423;H01L21/336;H01L29/78

优先权：["20221012 TW 111138548"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.04.30#实质审查的生效;2024.04.12#公开

摘要：本发明提供一种分离栅沟槽式元件及其制造方法。所述分离栅沟槽式元件包括基板、具有沟槽的外延层以及分离栅结构。外延层形成在基板上，且分离栅结构设置在沟槽内。分离栅结构包括遮蔽栅极、两个顶部栅极、遮蔽氧化层、栅极氧化层以及栅极间氧化层。两个顶部栅极各自具有上宽下窄的形状。

主权项：1.一种分离栅沟槽式元件，其特征在于，包括：基板；外延层，形成于所述基板上，且所述外延层具有沟槽；以及分离栅结构，设置于所述沟槽内，其中所述分离栅结构包括：遮蔽栅极，位于所述沟槽内部；第一顶部栅极与第二顶部栅极，分别设置在所述遮蔽栅极上方，其中所述第一顶部栅极与所述第二顶部栅极各自具有上宽下窄的形状；栅极氧化层，位于所述第一顶部栅极与所述沟槽之间以及位于所述第二顶部栅极与所述沟槽之间；遮蔽氧化层，位于所述遮蔽栅极与所述沟槽之间；以及栅极间氧化层位于所述遮蔽栅极、所述第一顶部栅极与所述第二顶部栅极之间。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 杰力科技股份有限公司 分离栅沟槽式元件及其制造方法

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