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【发明授权】一种基于碲化锗相变开关的可重构滤波器_重庆邮电大学;电子科技大学_202310261175.7 

申请/专利权人:重庆邮电大学;电子科技大学

申请日:2023-03-17

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN116207465B

主分类号:H01P1/20

分类号:H01P1/20

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.12#授权;2023.06.20#实质审查的生效;2023.06.02#公开

摘要:本发明属于滤波器件领域,具体涉及一种基于碲化锗相变开关的可重构滤波器,包括:基板、开关加热电极层、介质隔离层、GeTe层、电极层、背面接地层、滤波器谐振环;基板用于支撑整个器件结构;开关加热电极层嵌入基板特定的凹槽内,用于加热GeTe层使其相变;介质隔离层设置在开关加热电极层与GeTe层之间,用于隔离开关加热电极层与GeTe层;电极层位于GeTe层上方与滤波器谐振环连接,用于固定GeTe层与滤波器谐振环;背面接地层位于基板底部。本发明通过加热开关加热电极层改变GeTe相变材料的物理状态,不需要一直外加电压,与一般的MEMS可调滤波器相比具有更快的响应时间、更小的驱动电压脉冲不消耗静态功率。

主权项:1.一种基于碲化锗相变开关的可重构滤波器,其特征在于,包括:基板、开关加热电极层、介质隔离层、GeTe层、电极层、背面接地层、滤波器谐振环;所述基板用于支撑整个器件结构,基板上下两面都生长有氮化硅层;所述开关加热电极层嵌入所述基板上开设的凹槽内,用于加热GeTe层使其相变;所述介质隔离层设置在所述开关加热电极层与所述GeTe层之间,用于隔离所述开关加热电极层与所述GeTe层;所述电极层位于所述GeTe层上方与所述滤波器谐振环连接,用于固定所述GeTe层与所述滤波器谐振环;所述滤波器谐振环,包括:开口谐振环与缝隙耦合馈电结构,所述缝隙耦合馈电结构与开口谐振环通过耦合的方式实现馈电连接;所述缝隙耦合馈电结构与开口谐振环通过耦合的方式实现馈电连接,包括:所述开口谐振环本身可视为电感,电荷在谐振环自身缺口处聚集形成电容,开口谐振环之间产生缝隙耦合电容,形成谐振电路;所述背面接地层位于所述基板底部。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 重庆邮电大学;电子科技大学 一种基于碲化锗相变开关的可重构滤波器

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