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【发明授权】表面清洁系统的控制方法及表面清洁系统_北京顺造科技有限公司_202211142758.X 

申请/专利权人:北京顺造科技有限公司

申请日:2022-09-20

公开(公告)日:2024-04-12

公开(公告)号:CN115486758B

主分类号:A47L11/30

分类号:A47L11/30;A47L11/40

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.12#授权;2023.01.03#实质审查的生效;2022.12.20#公开

摘要:本公开提供一种表面清洁系统的控制方法,所述表面清洁系统包括表面清洁设备以及用于表面清洁停靠的基站,所述表面清洁设备包括:清洁部;流体分配系统;流体回收系统;搅拌器;第一气流加速器;控制器,所述控制器用于控制所述第一气流加速器、第二气流加速器和搅拌器运行;以及可再充电电池,所述可再充电电池用于选择性地为表面清洁系统供电;其中,所述表面清洁系统的控制方法包括:所述控制器配置为在执行至少一个自清洁循环的过程中,执行至少一个搅拌器正反转循环,其中,在所述搅拌器反转中,使得所述搅拌器的外周以干涉的方式与所述盖体基本光滑的内表面接触,以去除所述盖体内表面上附着的污渍。本公开还提供一种表面清洁系统。

主权项:1.一种表面清洁系统的控制方法,所述表面清洁系统包括表面清洁设备以及用于表面清洁停靠的基站,其特征在于:所述表面清洁设备包括:清洁部,所述清洁部包括可移除的盖体,所述清洁部形成有容纳腔,所述盖体的内表面形成为基本光滑的表面,并且所述盖体的内表面形成为容纳腔的至少部分侧壁;流体分配系统,所述流体分配系统包括分配通道、喷嘴和供应罐,供应罐和喷嘴至少部分地限定了分配通道;流体回收系统,所述流体回收系统包括回收通道、吸嘴和回收罐,回收罐和吸嘴至少部分地界定了回收通道;搅拌器,具有至少一个清洁面,所述搅拌器设置在所述清洁部的容纳腔中,并且位于流体分配系统和流体回收系统中,且搅拌器的自转轴横向设置地与所述吸嘴靠近,所述搅拌器被配置为其至少一个清洁面与所述基本光滑的表面形成干涉;第一气流加速器,所述第一气流加速器与所述流体回收系统流体连通;控制器,所述控制器用于控制所述第一气流加速器和搅拌器运行;以及可再充电电池,所述可再充电电池用于选择性地为表面清洁系统供电;其中,所述表面清洁系统的控制方法包括:所述控制器配置为在执行至少一个自清洁循环的过程中,执行至少一个搅拌器正反转循环,其中,在所述搅拌器反转中,使得所述搅拌器的外周以干涉的方式与所述盖体基本光滑的内表面接触,以去除所述盖体内表面上附着的污渍;其中,所述自清洁循环包括:在搅拌器的正转中,向搅拌器提供清洁液体,并通过清洁液体完成一次搅拌器清洁;其中,所述基本光滑的表面包括靠近吸嘴的第一缘,以及与所述第一缘相对的第二缘,所述搅拌器被配置为其至少一个清洁面与所述基本光滑的表面形成干涉包括,所述搅拌器被安装在容纳腔内时,自所述第一缘至第二缘形成连续的干涉表面。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京顺造科技有限公司 表面清洁系统的控制方法及表面清洁系统

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