申请/专利权人：鹏城实验室

申请日：2023-12-12

公开（公告）日：2024-04-12

公开（公告）号：CN117406564B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.12#授权;2024.02.02#实质审查的生效;2024.01.16#公开

摘要：本发明涉及光源调控技术领域，公开了一种光源调控方法、装置、设备及存储介质，该方法包括：将泵浦光源发射的高强度激光输入至高次谐波产生腔，获得目标极紫外光；基于目标极紫外光对泵浦光源对应的光源模场进行空间分布调控，获得泵浦光源对应的光源模场数据；基于光源模场数据建立光源基本数据库；基于光源基本数据库进行光源掩模联合优化，以根据掩模版优化参数进行极紫外光调控。本发明基于对泵浦光源对应的光源模场进行调控获得的光源模场数据建立光源基本数据库，并基于光源基本数据库进行光源掩模联合优化，以根据掩模版优化参数进行极紫外光调控，解决了EUV光刻中的EUV光源难调控，进而导致光刻分辨率较低的技术问题。

主权项：1.一种光源调控方法，其特征在于，所述光源调控方法包括：将泵浦光源发射的高强度激光输入至高次谐波产生腔，获得目标极紫外光；基于所述目标极紫外光对所述泵浦光源对应的光源模场进行空间分布调控，获得所述泵浦光源对应的光源模场数据；基于所述光源模场数据建立所述目标极紫外光对应的光源基本数据库，所述光源基本数据库为用于存储泵浦光源模场数据、输出极紫外光源的空间分布数据以及二者的对应关系的数据库；基于所述光源基本数据库进行光源掩模联合优化，以根据掩模版优化参数进行极紫外光调控。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 鹏城实验室 光源调控方法、装置、设备及存储介质

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