申请/专利权人:深圳大学
申请日:2023-12-21
公开(公告)日:2024-04-16
公开(公告)号:CN117891130A
主分类号:G03F7/004
分类号:G03F7/004;G03F7/027
优先权:
专利状态码:在审-公开
法律状态:2024.04.16#公开
摘要:本发明公开了一种氢敏双光子光刻胶及其制备方法与应用。该氢敏双光子光刻胶的制备方法包括:提供钯纳米材料;在黄光条件下,将钯纳米材料和光聚合体系混合,得到氢敏双光子光刻胶;其中,所述光聚合体系包括聚合单体和光引发剂。本发明通过将钯纳米材料与光聚合体系共混制备得到氢敏双光子光刻胶,再经激光直写技术打印、显影后,得到了任意形状的氢敏三维微纳器件。钯纳米材料比表面积高,具有更快的响应速度,光聚合体系的柔性聚合物和钯纳米材料之间紧密结合,增强了结构稳定性。本发明首次实现了氢气敏感微结构的打印,为推进片上集成氢气微传感器提供了一条创新的途径。
主权项:1.一种氢敏双光子光刻胶的制备方法,其特征在于,包括步骤:提供钯纳米材料;在黄光条件下,将所述钯纳米材料、光聚合体系混合,得到所述氢敏双光子光刻胶;其中,所述光聚合体系包括聚合单体和光引发剂。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 深圳大学 一种氢敏双光子光刻胶及其制备方法与应用
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