申请/专利权人：赫拉化学科技有限公司

申请日：2020-03-27

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN113448171B

主分类号：G03F7/075

分类号：G03F7/075;G03F7/00;G03F7/11

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2023.03.28#专利申请权的转移;2021.10.22#实质审查的生效;2021.09.28#公开

摘要：本发明提供负型光敏树脂组合物、利用该组合物的图案的形成方法及基板保护用覆膜的制备方法，负型光敏树脂组合物包含：含有以下述化学式1及2表示的重复单位的光敏树脂、官能单体及光引发剂。本发明的负型光敏树脂组合物包含具有呫吨骨架的硅氧烷树脂，从而具有耐热性、基板硬度及基板密合性等优异的物性。[化学式1][化学式2]

主权项：1.一种负型光敏树脂组合物，其中，包含：含有以下述化学式1及2表示的重复单位的光敏树脂，官能单体，及光引发剂，[化学式1] [化学式2] 在所述化学式1及化学式2中，R1至R4相互独立地是氢、C1-C10烷基或C1-C10烷氧基；R11及R12相互独立地是C1-C10烷基，R13及R14相互独立地是C6-C12芳基；p及q相互独立地是2至10的整数；以摩尔比表示，s是0.6≤s≤0.9，t是0.1≤t≤0.4，相对于负型光敏树脂组合物的总重量，所述光敏树脂组合物包含30至70重量％的光敏树脂、1至20重量％的官能单体、0.1至10重量％的光引发剂及余量的溶剂，所述光引发剂为酰基氧化膦类化合物。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 赫拉化学科技有限公司 光敏树脂组合物、图案形成方法及基板保护用覆膜的制备方法

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