申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司

申请日：2024-01-29

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN117926230A

主分类号：C23C16/50

分类号：C23C16/50;H01L21/67;H01L21/677

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要：本申请公开了一种工艺腔室、半导体工艺设备及其控制方法，涉及镀膜设备技术领域，所公开的工艺腔室包括腔室主体，腔室主体包括第一腔室和第二腔室，第二腔室设于第一腔室内，第二腔室用于容纳承载舟。通过在第一腔室内增设第二腔室，使得承载舟以及反应气体均被容置于第二腔室内，反应气体不易与第一腔室的内壁接触，从而对第一腔室实现保护，提升了工艺腔室的耐久性。

主权项：1.一种工艺腔室，应用于半导体工艺设备，所述半导体工艺设备包括承载舟200，其特征在于，所述工艺腔室100包括腔室主体110；所述腔室主体110包括第一腔室111和第二腔室112，所述第二腔室112设于所述第一腔室111内，所述第二腔室112用于容纳所述承载舟200。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 工艺腔室、半导体工艺设备及其控制方法

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