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【发明公布】玻璃块及其制造方法和半导体制造装置用部件_AGC株式会社_202280061637.4 

申请/专利权人:AGC株式会社

申请日:2022-09-06

公开(公告)日:2024-04-26

公开(公告)号:CN117940385A

主分类号:C03C3/087

分类号:C03C3/087;C03B5/235;C03B25/00;C03C3/062;C03C3/064;C03C3/066;C03C3/068;C03C3/076;C03C3/078;C03C3/083;C03C3/085;C03C3/089;C03C3/091;C03C3/093;C03C3/095;C03C3/097;C03C3/112;H01L21/3065

优先权:["20210914 JP 2021-149104","20211012 JP 2021-167594","20211126 JP 2021-192308"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要:本发明提供耐等离子体性和透明性优异的玻璃块。本发明的玻璃块含有Mg和Ca中的至少任一者与Si,以摩尔%计,B2O3为49.0%以下,P2O5为11.5%以下,a=SiO2+B2O3+P2O5+GeO2为10.0~59.5%,a+Al2O3为66.5%以下,Ga2O3为7.0%以下,b=Al2O3+Ga2O3+In2O3a为0.44以下,R2O为20.0%以上R2:碱土金属,MgO为50.0%以下,MgO≥BaO,CaO≥BaO,SrO≥BaO,MgO≥SrO,CaO≥SrO,R12O为1.2%以下R1:碱金属,TiO2或者ZrO2为4.8%以下,MnO2为9.5%以下,ZnO为11.8%以下,Ta2O5SiO2为0.067以下,杂质元素为15.0%以下,FO为0.20以下。

主权项:1.一种玻璃块,含有镁和钙中的至少任一者与硅,将碱金属元素设为R1,将碱土金属元素设为R2时,以氧化物基准的摩尔百分比表示,B2O3的含量为49.0摩尔%以下,P2O5的含量为11.5摩尔%以下,SiO2、B2O3、P2O5和GeO2的含量的合计为10.0摩尔%~59.5摩尔%,SiO2、B2O3、P2O5、GeO2和Al2O3的含量的合计为66.5摩尔%以下,Ga2O3的含量为7.0摩尔%以下,Al2O3、Ga2O3和In2O3的含量的合计b与SiO2、B2O3、P2O5和GeO2的含量的合计a之比ba为0.44以下,R2O的含量为20.0摩尔%以上,MgO的含量为50.0摩尔%以下,MgO的含量为BaO的含量以上,CaO的含量为BaO的含量以上,且SrO的含量为BaO的含量以上,MgO的含量为SrO的含量以上,且CaO的含量为SrO的含量以上,R12O的含量为1.2摩尔%以下,TiO2或者ZrO2的含量为4.8摩尔%以下,MnO2的含量为9.5摩尔%以下,ZnO的含量为11.8摩尔%以下,Ta2O5的含量与SiO2的含量之比Ta2O5SiO2为0.067以下,杂质元素的按氧化物换算的含量为15.0摩尔%以下,其中,所述杂质元素为除硅、硼、磷、锗、铝、镓、铟、碱土金属元素、钇、碱金属元素、钛、锆、锰、锌和钽以外的金属元素,氟的含量F与氧的含量O之比FO为0.20以下。

全文数据:

权利要求:

百度查询: AGC株式会社 玻璃块及其制造方法和半导体制造装置用部件

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