申请/专利权人:内蒙古大全半导体有限公司
申请日:2024-01-30
公开(公告)日:2024-04-30
公开(公告)号:CN117945404A
主分类号:C01B33/035
分类号:C01B33/035
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开
摘要:本发明为一种集成电路芯片用多晶硅的还原进料方法。一种集成电路芯片用多晶硅的还原进料方法,所述的还原进料方法中进料分4分项控制进料,按照顺序分为进料初期、提料期、生产期、稳定期;其中,N为第N次进料,三氯氢硅进料量用A表示,氢气进料量用B表示;所述的进料初期:三氯氢硅的进料量为A1,氢气的进料量为B1;所述的提料期:三氯氢硅的进料量为A1+C×N‑1kgh,氢气的进料量为B1+N‑1kgh;所述的生产期:三氯氢硅的进料量为A12+2C×N‑12kgh,氢气的进料量为B12+2或1×N‑12kgh;所述的稳定期:三氯氢硅的进料量为A37,氢气的进料量为B37或B37+D。本发明所述的一种集成电路芯片用多晶硅的还原进料方法,可以将进料配方有效固化的同时降低能耗。
主权项:1.一种集成电路芯片用多晶硅的还原进料方法,其特征在于,所述的还原进料方法中进料分4分项控制进料,按照顺序分为进料初期、提料期、生产期、稳定期;其中,进料不超过75次,N为第N次进料,三氯氢硅进料量用A表示,氢气进料量用B表示;所述的进料初期:三氯氢硅的进料量为A1,氢气的进料量为B1;所述的提料期:三氯氢硅的进料量为A1+C×N-1kgh,氢气的进料量为B1+N-1kgh;所述的生产期:三氯氢硅的进料量为A12+2C×N-12kgh,氢气的进料量为B12+2或1×N-12kgh;所述的稳定期:三氯氢硅的进料量为A37,氢气的进料量为B37或B37+D。
全文数据:
权利要求:
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