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【发明公布】包括设计组的光谱装置_惠普发展公司,有限责任合伙企业_201780093195.0 

申请/专利权人:惠普发展公司,有限责任合伙企业

申请日:2017-07-19

公开(公告)日:2020-03-24

公开(公告)号:CN110914655A

主分类号:G01J3/28(20060101)

分类号:G01J3/28(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.03.08#授权;2020.04.17#实质审查的生效;2020.03.24#公开

摘要:提供了一种光谱装置。光谱装置包括在基底上的多个设计组。每个设计组包括被基底的裸露区域分隔的多个倒塌组,其中,每个设计组的边缘被配置为增强溶剂干燥线在设计组的边缘处的钉扎。每个倒塌组包括至少两个柔性立柱状结构,并且每个柔性立柱状结构包括金属帽。

主权项:1.一种光谱装置,包括分析芯片,所述分析芯片包括在基底上的多个设计组,其中:每个设计组包括被基底的裸露区域分隔的多个倒塌组,其中,每个设计组的边缘被配置为增强溶剂干燥线在所述设计组的边缘处的钉扎;每个倒塌组包括至少两个柔性立柱状结构;并且每个柔性立柱状结构包括金属帽。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 惠普发展公司,有限责任合伙企业 包括设计组的光谱装置

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